| 1. |
|
|
| 2. |
- Ottosson, Mikael, 1980-, et al.
(författare)
-
Risk- och krishantering i lokala tekniska system kring IT och energi : En forskningsöversikt kring krishantering relaterat till systemberoende, aktörer och samordning
- 2006
-
Rapport (övrigt vetenskapligt/konstnärligt)abstract
- Denna forskningsöversikt utgör det inledande arbetet i forskningsprojektet ”Krisberedskap för teknisk infrastruktur – regionala och kommunala strategier för samverkan och implementering” som finansieras av Krisberedskapsmyndigheten (KBM) 2006-2008. Denna översikt utgör en introduktion och syftar till att orientera deltagande forskare i det internationella forskningsläget kring lokal och regional krishantering beträdande IT och energi.Denna forskningsöversikt har genomförts av projektledare FD Elin Wihlborg vid avdelningen för Statsvetenskap, Ekonomiska institutionen och FD Jenny Palm tema Teknik och Social förändring och pol.mag. Mikael Ottosson som nu är doktorand inom Program Energisystem. Alla är verksamma vid Linköpings universitet.
|
|
| 3. |
- Segolsson, Mikael, 1968-
(författare)
-
Programmeringens intentionala objekt : Nio elevers uppfattningar av programmering
- 2006
-
Licentiatavhandling (övrigt vetenskapligt/konstnärligt)abstract
- I dagens postmoderna samhälle är väsentliga delar i vårt arbete relaterade till datorer i någon form. Robotiseringen inom industrin utgör ett exempel på hur det mänskliga arbetet förskjutits från det konkret fysiska till att bestå av programmering och övervakning av produktionsprocesser. Denna utveckling ställer nya krav på både utbildning och rekrytering av arbetskraft, något som visat sig vara svårt eftersom intresset för tekniska utbildningar är svagt i Sverige, trots stora satsningar på ökad rekrytering inom de tekniska utbildningarna.I föreliggande studie presenteras forskningsfrågan: Vad riktar eleverna sin uppmärksamhet mot i sina beskrivningar av programmeringshandlingen? Studien är en del av en kartläggning av hur elever begreppsbildar då de arbetar med programmerbart konstruktionsmaterial i teknikundervisningen. Arbetet med programmerbara robotar i skolan är ett exempel på hur tekniska komponenter integreras med datorstött lärande för att ge eleverna en bild av teknik som fenomen i samhället och som introduktion till datorarbete inom skola.Studiens vetenskapsteoretiska utgångspunkt ligger inom livsvärldsfenomenologi med metodisk ansats i fenomenografi. Ett grundläggande begrepp inom fenomenologi och även för denna studie är intentionalitet. Centralt är också uppfattningsbegreppet så som det används inom fenomenografi. Syftet med uppsatsen är att beskriva vad elever i skolår 8 och 9 riktar sin uppmärksamhet mot när de programmerar – hur elevernas intentionala objekt visar sig när de beskriver sina program.Analysen har resulterat i fyra beskrivningskategorier av elevernas intentionala objekt. Programmeringshandlingen beskrivs med uppmärksamheten riktad mot: Systematisk indelning av programmet, att komma ihåg tidigare programlösningar, robotens rörelser och att lösa uppgiften.
|
|
| 4. |
- Sundqvist, Jonas, et al.
(författare)
-
Growth of SnO2 thin films by atomic layer deposition and chemical vapour deposition: A comparative study
- 2006
-
Ingår i: Thin Solids Films. - : Elsevier BV. - 0040-6090. ; 514:1-2, s. 63-68
-
Tidskriftsartikel (refereegranskat)abstract
- Thin films of the tetragonal rutile-type SnO2 phase have been deposited by both atomic layer deposition (ALD) and chemical vapour deposition (CVD) using the SnI4–O2 precursor combination. Depositions were carried out in the temperature region of 350–750 °C on α-Al2O3(0 1 2) substrates. In both cases the films were found to grow epitaxially with the in-plane orientation relationships [0 1 0]SnO2 || [1 0 0]α-Al2O3 and [1 0 1¯]SnO2 || [1¯ 2¯ 1]α-Al2O3. Films grown by ALD were found to be close to perfectly single crystalline, contained a low density of defects and were almost atomically smooth. The CVD films were found to have a much rougher film morphology, and exhibited both grain boundaries and twin formation.
|
|
| 5. |
- Törndahl, Tobias, 1974-, et al.
(författare)
-
Growth of Copper(I) Nitride by ALD Using Copper(II) Hexafluoroacetylacetonate, Water and Ammonia as Precursors
- 2006
-
Ingår i: Journal of the Electrochemical Society. - : The Electrochemical Society. - 0013-4651 .- 1945-7111. ; 153:3, s. C146-C151
-
Tidskriftsartikel (övrigt vetenskapligt/konstnärligt)abstract
- Films of copper(I) nitride were deposited by atomic layer deposition (ALD) using copper(II) hexafluoroacetylacetonate, water, and ammonia as precursors. Introduction of a water pulse in the ALD cycle was found to be crucial for initiating film growth on both amorphous SiO2 and single-crystalline α-Al2O3(001) substrates. The water pulses generated an oxidic copper monolayer, which in a subsequent ammonia pulse was converted to the nitride. The films have been grown in the temperature range from 210to302°C . Phase pure films of Cu3N were obtained up to 265°C . At higher deposition temperatures such as 283°C , phase mixtures of Cu3N and Cu were obtained. For temperatures above 302°C films of only Cu were grown. Film growth rate was the same on the two different substrates. The films were randomly oriented on SiO2 . Completely intact films were obtained at a thickness of 20nm . The optical bandgap of the films was measured to be 1.6eV .
|
|
