SwePub
Tyck till om SwePub Sök här!
Sök i SwePub databas

  Utökad sökning

Träfflista för sökning "WFRF:(Maximov Ivan) ;pers:(Zakharov Alexei)"

Sökning: WFRF:(Maximov Ivan) > Zakharov Alexei

  • Resultat 1-2 av 2
Sortera/gruppera träfflistan
   
NumreringReferensOmslagsbildHitta
1.
  •  
2.
  • Zakharov, Alexei, et al. (författare)
  • Quantative photoelectron spectromicroscopy for investigation of PMMA resist residues
  • 2002
  • Ingår i: 7th International Conference on Nanometer-Scale Science and Technology and 21st European Conference on Surface Science.
  • Konferensbidrag (refereegranskat)abstract
    • We show that photoelectron spectroscopy (PES) due to its surface sensitivity can be used as a straightforward method to quantify the PMMA resist residues which remain on SiO2 surfaces after electron beam exposure and resist development. The attenuation of the SiO2 valence band and Si2p photoelectrons has been measured by using a photoelectron microscope and it has been found that correctly exposed and developed PMMA resist leaves residues with an average thickness of about 0.7 nm. Higher exposure doses result in decrease of the film thickness, but still with residues of about 0.5 nm. The technique can be applied as a powerful tool for surface and interface quality control in technology of electronic devices
  •  
Skapa referenser, mejla, bekava och länka
  • Resultat 1-2 av 2
Typ av publikation
tidskriftsartikel (1)
konferensbidrag (1)
Typ av innehåll
refereegranskat (2)
Författare/redaktör
Maximov, Ivan (2)
Montelius, Lars (2)
Zakharov, Alexei (2)Ta bort avgränsningen
Lindau, Ingolf (2)
Holmqvist, T (2)
Lärosäte
Lunds universitet (2)
Språk
Engelska (2)
Forskningsämne (UKÄ/SCB)
Naturvetenskap (2)
År
2002 (2)

Kungliga biblioteket hanterar dina personuppgifter i enlighet med EU:s dataskyddsförordning (2018), GDPR. Läs mer om hur det funkar här.
Så här hanterar KB dina uppgifter vid användning av denna tjänst.

 
pil uppåt Stäng

Kopiera och spara länken för att återkomma till aktuell vy