id:"swepub:oai:DiVA.org:kth-14034"
Sökning: id:"swepub:oai:DiVA.org:kth-14034" > On different proces...
- 1 av 1
- Föregående post
- Nästa post
- Till träfflistan
On different process schemes for a controllable NiSi-based metallic source/drainMOSFETs with dopant segregation
-
- Luo, Jun (författare)
- KTH,Integrerade komponenter och kretsar
- Wu, Donping (författare)
- Qiu, Zhijun (författare)
- visa fler...
- Lu, Jun (författare)
- Hultman, Lars (författare)
- visa färre...
- (creator_code:org_t)
- Engelska.
- Ingår i: IEEE Transactions on Electron Devices. - 0018-9383 .- 1557-9646.
- Tidskriftsartikel (övrigt vetenskapligt/konstnärligt)
Hitta via bibliotek
- IEEE Transactions on Electron Devices (Sök värdpublikationen i LIBRIS)
Till lärosätets databas
- 1 av 1
- Föregående post
- Nästa post
- Till träfflistan
Hitta mer i SwePub
- Av författaren/redakt...
- Luo, Jun
- Wu, Donping
- Qiu, Zhijun
- Lu, Jun
- Hultman, Lars
- Östling, Mikael
- Artiklar i publikationen
- IEEE Transaction ...
- Av lärosätet
- Kungliga Tekniska Högskolan
Sök utanför SwePub
- Sök vidare i:
- Google Book Search
- Google Scholar
Kungliga biblioteket hanterar dina personuppgifter i enlighet med EU:s dataskyddsförordning (2018), GDPR. Läs mer om hur det funkar här.
Så här hanterar KB dina uppgifter vid användning av denna tjänst.
- Copyright © LIBRIS - Nationella bibliotekssystem
- LIBRIS.kb.se
