Sökning: id:"swepub:oai:DiVA.org:kth-262430" >
4H-SIC trench pMOSF...
4H-SIC trench pMOSFETs for high-frequency CMOS inverters
-
Inoue, J. (författare)
-
Kuroki, S. -I (författare)
-
Ishikawa, S. (författare)
-
visa fler...
-
Maeda, T. (författare)
-
Sezaki, H. (författare)
-
Makino, T. (författare)
-
Ohshima, T. (författare)
-
- Östling, Mikael (författare)
- KTH,Elektronik och inbyggda system
-
- Zetterling, Carl-Mikael, 1966- (författare)
- KTH,Integrerade komponenter och kretsar
-
visa färre...
-
(creator_code:org_t)
- Trans Tech Publications Ltd, 2019
- 2019
- Engelska.
-
Ingår i: Silicon Carbide and Related Materials 2018. - : Trans Tech Publications Ltd. - 9783035713329 ; , s. 837-840
- Relaterad länk:
-
https://warwick.ac.u...
-
visa fler...
-
https://www.scientif...
-
https://urn.kb.se/re...
-
https://doi.org/10.4...
-
visa färre...
Abstract
Ämnesord
Stäng
- Low-parasitic-capacitance 4H-SiC pMOSFETs were demonstrated for high-frequency CMOS inverters. In these pMOSFETs, device characteristics including parasitic capacitances (gate-source, gate-drain capacitance) were investigated and low parasitic capacitance was achieved by the trench gate structure.
Ämnesord
- TEKNIK OCH TEKNOLOGIER -- Elektroteknik och elektronik (hsv//swe)
- ENGINEERING AND TECHNOLOGY -- Electrical Engineering, Electronic Engineering, Information Engineering (hsv//eng)
Nyckelord
- 4H-SiC
- Harsh environment electronics
- Overlapping capacitance
- PMOSFET
- Capacitance
- CMOS integrated circuits
- MOSFET devices
- Device characteristics
- Gate-drain capacitance
- Harsh environment
- High frequency HF
- Parasitic capacitance
- Trench gate structures
- Silicon carbide
Publikations- och innehållstyp
- ref (ämneskategori)
- kon (ämneskategori)
Hitta via bibliotek
Till lärosätets databas