Sökning: id:"swepub:oai:DiVA.org:liu-46873" >
Low temperature dep...
Low temperature deposition of a-Al2O3 thin films by sputtering using a Cr2O3 template
-
- Jin, P. (författare)
- National Institute of AIST, 2266-98 Anagahora, Shimoshidami, Nagoya, 463-8560, Japan
-
- Xu, G. (författare)
- National Institute of AIST, 2266-98 Anagahora, Shimoshidami, Nagoya, 463-8560, Japan
-
- Tazawa, M. (författare)
- National Institute of AIST, 2266-98 Anagahora, Shimoshidami, Nagoya, 463-8560, Japan
-
visa fler...
-
- Yoshimura, K. (författare)
- National Institute of AIST, 2266-98 Anagahora, Shimoshidami, Nagoya, 463-8560, Japan
-
- Music, Denis (författare)
- Linköpings universitet,Tekniska högskolan,Tunnfilmsfysik
-
- Alami, Jones (författare)
- Linköpings universitet,Tekniska högskolan,Plasma och ytbeläggningsfysik
-
- Helmersson, Ulf (författare)
- Linköpings universitet,Tekniska högskolan,Plasma och ytbeläggningsfysik
-
visa färre...
-
(creator_code:org_t)
- American Vacuum Society, 2002
- 2002
- Engelska.
-
Ingår i: Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces, and Films. - : American Vacuum Society. - 0734-2101 .- 1520-8559. ; 20:6, s. 2134-2136
- Relaterad länk:
-
https://urn.kb.se/re...
-
visa fler...
-
https://doi.org/10.1...
-
visa färre...
Abstract
Ämnesord
Stäng
- A description about low temperature deposition of a-Al2O3 thin films by sputtering was presented. Cr2O3 thin layer was used as a template. Nanoindentation was used to study the mechanical properties of the deposited films. Calculations were made to obtain the hardness and Young's modulus of the films.
Nyckelord
- TECHNOLOGY
- TEKNIKVETENSKAP
Publikations- och innehållstyp
- ref (ämneskategori)
- art (ämneskategori)
Hitta via bibliotek
Till lärosätets databas