SwePub
Sök i LIBRIS databas

  Utökad sökning

id:"swepub:oai:DiVA.org:liu-63624"
 

Sökning: id:"swepub:oai:DiVA.org:liu-63624" > Ni and Ti diffusion...

Ni and Ti diffusion barrier layers between Ti-Si-C-Ag nanocomposite coatings and Cu-based substrates

Gunnarsson Sarius, Niklas, 1976- (författare)
Linköpings universitet,Tunnfilmsfysik,Tekniska högskolan
Lauridsen, Jonas (författare)
Linköpings universitet,Tunnfilmsfysik,Tekniska högskolan
Lewin, E. (författare)
Department of Materials Chemistry, The Ångström Laboratory, Uppsala University, Sweden
visa fler...
Lu, Jun (författare)
Linköpings universitet,Tunnfilmsfysik,Tekniska högskolan
Högberg, Hans (författare)
Linköpings universitet,Tunnfilmsfysik,Tekniska högskolan
Öberg, Å. (författare)
ABB Corporate Research, Forskargränd 7, SE-721 78 Västerås, Sweden
Ljungcrantz, H. (författare)
Impact Coatings AB, Westmansgatan 29, SE-582 16 Linköping, Sweden
Leisner, P. (författare)
SP Technical Research Institute of Sweden, Box 857, SE-501 15 Borås, Sweden/School of Engineering Jönköping University, Box 1026, SE- 551 11 Jönköping, Sweden
Eklund, Per (författare)
Linköpings universitet,Tunnfilmsfysik,Tekniska högskolan
Hultman, Lars (författare)
Linköpings universitet,Tunnfilmsfysik,Tekniska högskolan
visa färre...
 (creator_code:org_t)
Elsevier, 2012
2012
Engelska.
Ingår i: Surface & Coatings Technology. - : Elsevier. - 0257-8972 .- 1879-3347. ; 206:8-9, s. 2558-2565
  • Tidskriftsartikel (refereegranskat)
Abstract Ämnesord
Stäng  
  • Sputtered Ni and Ti layers were investigated as substitutes for electroplated Ni as adiffusion barrier between Ti-Si-C and Ti-Si-C-Ag nanocomposite coatings and Cu orCuSn substrates. Samples were subjected to thermal annealing studies by exposure to400 ºC during 11 h. Dense diffusion barrier and coating hindered Cu from diffusing tothe surface. This condition was achieved for electroplated Ni in combination withmagnetron-sputtered Ti-Si-C and Ti-Si-C-Ag layers deposited at 230 ºC and 300 ºC,and sputtered Ti or Ni layers in combination with Ti-Si-C-Ag deposited at 300 ºC.

Nyckelord

Titanium carbide; nanocomposite; physical vapor deposition (PVD); diffusion; barrier; annealing
NATURAL SCIENCES
NATURVETENSKAP

Publikations- och innehållstyp

ref (ämneskategori)
art (ämneskategori)

Hitta via bibliotek

Till lärosätets databas

Sök utanför SwePub

Kungliga biblioteket hanterar dina personuppgifter i enlighet med EU:s dataskyddsförordning (2018), GDPR. Läs mer om hur det funkar här.
Så här hanterar KB dina uppgifter vid användning av denna tjänst.

 
pil uppåt Stäng

Kopiera och spara länken för att återkomma till aktuell vy