Sökning: id:"swepub:oai:DiVA.org:liu-99944" >
Magnetron sputterin...
Magnetron sputtering of epitaxial ZrB2 thin films on 4H-SiC(0001) and Si(111)
-
- Tengdelius, Lina (författare)
- Linköpings universitet,Tunnfilmsfysik,Tekniska högskolan
-
- Birch, Jens (författare)
- Linköpings universitet,Tunnfilmsfysik,Tekniska högskolan
-
- Lu, Jun (författare)
- Linköpings universitet,Tunnfilmsfysik,Tekniska högskolan
-
visa fler...
-
- Hultman, Lars (författare)
- Linköpings universitet,Tunnfilmsfysik,Tekniska högskolan
-
- Forsberg, Urban (författare)
- Linköpings universitet,Halvledarmaterial,Tekniska högskolan
-
- Janzén, Erik (författare)
- Linköpings universitet,Halvledarmaterial,Tekniska högskolan
-
- Högberg, Hans (författare)
- Linköpings universitet,Tunnfilmsfysik,Tekniska högskolan
-
visa färre...
-
(creator_code:org_t)
- 2013-12-02
- 2014
- Engelska.
-
Ingår i: Physica Status Solidi (a). - : John Wiley & Sons. - 1862-6319 .- 1862-6300. ; 211:3, s. 636-640
- Relaterad länk:
-
https://liu.diva-por... (primary) (Raw object)
-
visa fler...
-
http://liu.diva-port...
-
https://urn.kb.se/re...
-
https://doi.org/10.1...
-
visa färre...
Abstract
Ämnesord
Stäng
- Epitaxial ZrB2 thin films were deposited at a temperature of 900 °C on 4H-SiC(0001) and Si(111) substrates by magnetron sputtering from a ZrB2 source at high rate ~80 nm/min. The films were analyzed by thin film X-ray diffraction including pole figure measurements and reciprocal space mapping as well as high resolution electron microscopy.
Nyckelord
- Zirconium diboride Epitaxial growth Silicon carbide Thin films Magnetron sputtering
Publikations- och innehållstyp
- ref (ämneskategori)
- art (ämneskategori)
Hitta via bibliotek
Till lärosätets databas