id:"swepub:oai:DiVA.org:uu-10173"
Sökning: id:"swepub:oai:DiVA.org:uu-10173" > Basic Understanding...
- 1 av 1
- Föregående post
- Nästa post
- Till träfflistan
Basic Understanding of the Pulsed DC Reactive Sputter Deposition Process
-
- Berg, Sören (författare)
- Uppsala universitet,Institutionen för materialvetenskap,Elektronik,Fasta tillståndets elektronik
-
- Jonsson, Lars (författare)
- Uppsala universitet,Institutionen för materialvetenskap,Elektronik,Fasta tillståndets elektronik
-
- Nyberg, Tomas (författare)
- Uppsala universitet,Institutionen för materialvetenskap,Elektronik,Fasta tillståndets elektronik
- visa fler...
- visa färre...
- (creator_code:org_t)
- 1999
- 1999
- Engelska.
- Ingår i: Invited to Second Asian-European Int Conf on Plasma Surface Engineering (AEPSE´99), Beijing, September 15-19.
- Konferensbidrag (refereegranskat)
Till lärosätets databas
- 1 av 1
- Föregående post
- Nästa post
- Till träfflistan
Hitta mer i SwePub
- Av författaren/redakt...
- Berg, Sören
- Jonsson, Lars
- Nyberg, Tomas
- Katardjiev, Ilia
- Artiklar i publikationen
- Invited to Secon ...
- Av lärosätet
- Uppsala universitet
Sök utanför SwePub
- Sök vidare i:
- Google Book Search
- Google Scholar
Kungliga biblioteket hanterar dina personuppgifter i enlighet med EU:s dataskyddsförordning (2018), GDPR. Läs mer om hur det funkar här.
Så här hanterar KB dina uppgifter vid användning av denna tjänst.
- Copyright © LIBRIS - Nationella bibliotekssystem
- LIBRIS.kb.se
