id:"swepub:oai:DiVA.org:uu-10185"
Sökning: id:"swepub:oai:DiVA.org:uu-10185" > Modeling of the dep...
- 1 av 1
- Föregående post
- Nästa post
- Till träfflistan
Modeling of the deposition of stoichiometric Al2O3 using nonarcing direct current magnetron sputtering
- Macak, K (författare)
-
- Nyberg, Tomas (författare)
- Uppsala universitet,Institutionen för materialvetenskap,Elektronik,Fasta tillståndets elektronik
- Macak, P (författare)
- visa fler...
- Olsson, M K (författare)
- Helmersson, U (författare)
- visa färre...
- (creator_code:org_t)
- 1998
- 1998
- Engelska.
- Ingår i: J Vac Sci Technol A. ; 16:3, s. 1286-1292
- Tidskriftsartikel (refereegranskat)
- 1 av 1
- Föregående post
- Nästa post
- Till träfflistan
Hitta mer i SwePub
- Av författaren/redakt...
- Macak, K
- Nyberg, Tomas
- Macak, P
- Olsson, M K
- Helmersson, U
- Berg, Sören
- Artiklar i publikationen
- J Vac Sci Techno ...
- Av lärosätet
- Uppsala universitet
Sök utanför SwePub
- Sök vidare i:
- Google Book Search
- Google Scholar
Kungliga biblioteket hanterar dina personuppgifter i enlighet med EU:s dataskyddsförordning (2018), GDPR. Läs mer om hur det funkar här.
Så här hanterar KB dina uppgifter vid användning av denna tjänst.
- Copyright © LIBRIS - Nationella bibliotekssystem
- LIBRIS.kb.se
