id:"swepub:oai:DiVA.org:uu-18416"
Sökning: id:"swepub:oai:DiVA.org:uu-18416" > UHV-MOCVD growth of...
- 1 av 1
- Föregående post
- Nästa post
- Till träfflistan
UHV-MOCVD growth of TiO2 on SiOx/Si(111): Interfacial properties reflected in the Si 2p photoemission spectra
-
- Karlsson, Patrik (författare)
- Uppsala universitet,Fysiska institutionen,Fysik I,Fysik 1
-
- Richter, Jan Hinnerk (författare)
- Uppsala universitet,Fysiska institutionen,Fysik I
- Andersson, M P (författare)
- visa fler...
- Blomquist, J (författare)
- Uvdal, P (författare)
- visa färre...
- (creator_code:org_t)
- 2005
- 2005
- Engelska.
- Ingår i: Surface Science. ; 580:1-3, s. 207-217
- Tidskriftsartikel (refereegranskat)
- 1 av 1
- Föregående post
- Nästa post
- Till träfflistan
Hitta mer i SwePub
- Av författaren/redakt...
- Karlsson, Patrik
- Richter, Jan Hin ...
- Andersson, M P
- Blomquist, J
- Siegbahn, Hans
- Uvdal, P
- visa fler...
- Sandell, Anders
- visa färre...
- Artiklar i publikationen
- Surface Science
- Av lärosätet
- Uppsala universitet
Sök utanför SwePub
- Sök vidare i:
- Google Book Search
- Google Scholar
Kungliga biblioteket hanterar dina personuppgifter i enlighet med EU:s dataskyddsförordning (2018), GDPR. Läs mer om hur det funkar här.
Så här hanterar KB dina uppgifter vid användning av denna tjänst.
- Copyright © LIBRIS - Nationella bibliotekssystem
- LIBRIS.kb.se
