id:"swepub:oai:DiVA.org:uu-213586"
Sökning: id:"swepub:oai:DiVA.org:uu-213586" > Reactive diffusion ...
- 1 av 1
- Föregående post
- Nästa post
- Till träfflistan
Reactive diffusion in Ni/epi-SiGe layer stacks by microwave annealing
-
- Hu, Cheng (författare)
- Fudan Univeristy
-
- Gao, Xindong (författare)
- Uppsala universitet,Fasta tillståndets elektronik
-
- Xu, Peng (författare)
- Fudan Univeristy
- visa fler...
- visa färre...
- (creator_code:org_t)
- 2013
- 2013
- Engelska.
- Konferensbidrag (övrigt vetenskapligt/konstnärligt)
Ämnesord
Stäng
Ämnesord
- TEKNIK OCH TEKNOLOGIER -- Elektroteknik och elektronik (hsv//swe)
- ENGINEERING AND TECHNOLOGY -- Electrical Engineering, Electronic Engineering, Information Engineering (hsv//eng)
Nyckelord
- Teknisk fysik med inriktning mot elektronik
- Engineering Science with specialization in Electronics
Publikations- och innehållstyp
- vet (ämneskategori)
- kon (ämneskategori)
Till lärosätets databas
- 1 av 1
- Föregående post
- Nästa post
- Till träfflistan
Hitta mer i SwePub
- Av författaren/redakt...
- Hu, Cheng
- Gao, Xindong
- Xu, Peng
- Fu, C
- Radamson, Henrry
- Zhang, Shi-Li
- visa fler...
- Wu, Dongping
- visa färre...
- Om ämnet
-
- TEKNIK OCH TEKNOLOGIER
- TEKNIK OCH TEKNO ...
- och Elektroteknik oc ...
- Av lärosätet
- Uppsala universitet
Sök utanför SwePub
- Sök vidare i:
- Google Book Search
- Google Scholar
Kungliga biblioteket hanterar dina personuppgifter i enlighet med EU:s dataskyddsförordning (2018), GDPR. Läs mer om hur det funkar här.
Så här hanterar KB dina uppgifter vid användning av denna tjänst.
- Copyright © LIBRIS - Nationella bibliotekssystem
- LIBRIS.kb.se
