id:"swepub:oai:DiVA.org:uu-23537"
Sökning: id:"swepub:oai:DiVA.org:uu-23537" > Impact of Al-, Ni-,...
- 1 av 1
- Föregående post
- Nästa post
- Till träfflistan
Impact of Al-, Ni-, TiN-, and Mo metal gates on MOCVD-grown HfO2 and ZrO2 high-K dielectrics
- Abermann, S (författare)
- Efavi, J (författare)
-
- Sjöblom, Gustaf (författare)
- Uppsala universitet,Fasta tillståndets elektronik
- visa fler...
- Lemm, M (författare)
- Bertagnolli, E (författare)
- visa färre...
- (creator_code:org_t)
- 2006
- 2006
- Engelska.
- Konferensbidrag (refereegranskat)
Till lärosätets databas
- 1 av 1
- Föregående post
- Nästa post
- Till träfflistan
Hitta mer i SwePub
- Av författaren/redakt...
- Abermann, S
- Efavi, J
- Sjöblom, Gustaf
- Lemm, M
- Olsson, Jörgen
- Bertagnolli, E
- Av lärosätet
- Uppsala universitet
Sök utanför SwePub
- Sök vidare i:
- Google Book Search
- Google Scholar
Kungliga biblioteket hanterar dina personuppgifter i enlighet med EU:s dataskyddsförordning (2018), GDPR. Läs mer om hur det funkar här.
Så här hanterar KB dina uppgifter vid användning av denna tjänst.
- Copyright © LIBRIS - Nationella bibliotekssystem
- LIBRIS.kb.se
