id:"swepub:oai:DiVA.org:uu-257845"
Sökning: id:"swepub:oai:DiVA.org:uu-257845" > Initial etching in ...
- 1 av 1
- Föregående post
- Nästa post
- Till träfflistan
Initial etching in an RF butane plasma
- Andersson, LP (författare)
-
- Berg, Sören (författare)
- Uppsala universitet,Fasta tillståndets elektronik
- (creator_code:org_t)
- 1978
- 1978
- Engelska.
- Ingår i: Vacuum. - 0042-207X .- 1879-2715. ; 28, s. 449-
- Tidskriftsartikel (refereegranskat)
- 1 av 1
- Föregående post
- Nästa post
- Till träfflistan
Hitta mer i SwePub
- Av författaren/redakt...
- Andersson, LP
- Berg, Sören
- Artiklar i publikationen
- Vacuum
- Av lärosätet
- Uppsala universitet
Sök utanför SwePub
- Sök vidare i:
- Google Book Search
- Google Scholar
Kungliga biblioteket hanterar dina personuppgifter i enlighet med EU:s dataskyddsförordning (2018), GDPR. Läs mer om hur det funkar här.
Så här hanterar KB dina uppgifter vid användning av denna tjänst.
- Copyright © LIBRIS - Nationella bibliotekssystem
- LIBRIS.kb.se
