id:"swepub:oai:DiVA.org:uu-257878"
Sökning: id:"swepub:oai:DiVA.org:uu-257878" > The thin film forma...
- 1 av 1
- Föregående post
- Nästa post
- Till träfflistan
The thin film formation of rhodium silicides
-
- Petersson, CS (författare)
- Uppsala universitet,Fasta tillståndets elektronik
- Andersson, R (författare)
- Baglin, J (författare)
- visa fler...
- Dempsey, J (författare)
- Hammer, W (författare)
- d'Heurle, F (författare)
- Laplaca, S (författare)
- visa färre...
- (creator_code:org_t)
- 1980
- 1980
- Engelska.
- Ingår i: Journal of Applied Physics. - 0021-8979 .- 1089-7550. ; 51, s. 373-
- Tidskriftsartikel (refereegranskat)
Hitta via bibliotek
- Journal of Applied Physics (Sök värdpublikationen i LIBRIS)
Till lärosätets databas
- 1 av 1
- Föregående post
- Nästa post
- Till träfflistan
Hitta mer i SwePub
- Av författaren/redakt...
- Petersson, CS
- Andersson, R
- Baglin, J
- Dempsey, J
- Hammer, W
- d'Heurle, F
- visa fler...
- Laplaca, S
- visa färre...
- Artiklar i publikationen
- Journal of Appli ...
- Av lärosätet
- Uppsala universitet
Sök utanför SwePub
- Sök vidare i:
- Google Book Search
- Google Scholar
Kungliga biblioteket hanterar dina personuppgifter i enlighet med EU:s dataskyddsförordning (2018), GDPR. Läs mer om hur det funkar här.
Så här hanterar KB dina uppgifter vid användning av denna tjänst.
- Copyright © LIBRIS - Nationella bibliotekssystem
- LIBRIS.kb.se
