id:"swepub:oai:DiVA.org:uu-258304"
Sökning: id:"swepub:oai:DiVA.org:uu-258304" > Oxide breakdown due...
- 1 av 1
- Föregående post
- Nästa post
- Till träfflistan
Oxide breakdown due to charge accumulation during plasma etching
- Rydén, K-H (författare)
- Norström, H (författare)
- Nender, C (författare)
- visa fler...
- visa färre...
- (creator_code:org_t)
- 1987
- 1987
- Engelska.
- Ingår i: Journal of the Electrochemical Society. - 0013-4651 .- 1945-7111. ; 134:12, s. 3113-
- Tidskriftsartikel (refereegranskat)
Hitta via bibliotek
- Journal of the Electrochemical Society (Sök värdpublikationen i LIBRIS)
Till lärosätets databas
- 1 av 1
- Föregående post
- Nästa post
- Till träfflistan
Hitta mer i SwePub
- Av författaren/redakt...
- Rydén, K-H
- Norström, H
- Nender, C
- Berg, Sören
- Artiklar i publikationen
- Journal of the E ...
- Av lärosätet
- Uppsala universitet
Sök utanför SwePub
- Sök vidare i:
- Google Book Search
- Google Scholar
Kungliga biblioteket hanterar dina personuppgifter i enlighet med EU:s dataskyddsförordning (2018), GDPR. Läs mer om hur det funkar här.
Så här hanterar KB dina uppgifter vid användning av denna tjänst.
- Copyright © LIBRIS - Nationella bibliotekssystem
- LIBRIS.kb.se
