id:"swepub:oai:DiVA.org:uu-258401"
Sökning: id:"swepub:oai:DiVA.org:uu-258401" > Process modelling o...
- 1 av 1
- Föregående post
- Nästa post
- Till träfflistan
Process modelling of reactive sputtering
-
- Berg, Sören (författare)
- Uppsala universitet,Fasta tillståndets elektronik
- Blom, Hans-Olof (författare)
- Larsson, T (författare)
- visa fler...
- Moradi, M (författare)
- Nender, C (författare)
- visa färre...
- (creator_code:org_t)
- 1989
- 1989
- Engelska.
- Ingår i: Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces, and Films. - 0734-2101 .- 1520-8559. ; 7:3, s. 1225-1229
- Tidskriftsartikel (refereegranskat)
Hitta via bibliotek
- Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces, and Films (Sök värdpublikationen i LIBRIS)
Till lärosätets databas
- 1 av 1
- Föregående post
- Nästa post
- Till träfflistan
Hitta mer i SwePub
- Av författaren/redakt...
- Berg, Sören
- Blom, Hans-Olof
- Larsson, T
- Moradi, M
- Nender, C
- Artiklar i publikationen
- Journal of Vacuu ...
- Av lärosätet
- Uppsala universitet
Sök utanför SwePub
- Sök vidare i:
- Google Book Search
- Google Scholar
Kungliga biblioteket hanterar dina personuppgifter i enlighet med EU:s dataskyddsförordning (2018), GDPR. Läs mer om hur det funkar här.
Så här hanterar KB dina uppgifter vid användning av denna tjänst.
- Copyright © LIBRIS - Nationella bibliotekssystem
- LIBRIS.kb.se
