id:"swepub:oai:DiVA.org:uu-284870"
Sökning: id:"swepub:oai:DiVA.org:uu-284870" > Atomic layer deposi...
- 1 av 1
- Föregående post
- Nästa post
- Till träfflistan
Atomic layer deposition of TiO2 for reversibly switchable hydrophobic surfaces
- Hoshian, S (författare)
- Jokinen, Ville (författare)
- Li, Juan (författare)
- visa fler...
- Ras, R.H.A. (författare)
- Franssila, Samuli (författare)
- visa färre...
- (creator_code:org_t)
- 2013
- 2013
- Engelska.
- Ingår i: 24<sup>th</sup> Micromachine Europe. ; , s. P32-
- Konferensbidrag (övrigt vetenskapligt/konstnärligt)
Ämnesord
Stäng
Nyckelord
- Teknisk fysik med inriktning mot mikrosystemteknik
- Engineering Science with specialization in Microsystems Technology
Publikations- och innehållstyp
- vet (ämneskategori)
- kon (ämneskategori)
Till lärosätets databas
- 1 av 1
- Föregående post
- Nästa post
- Till träfflistan
Hitta mer i SwePub
- Av författaren/redakt...
- Hoshian, S
- Jokinen, Ville
- Li, Juan
- Ras, R.H.A.
- Hjort, Klas, 196 ...
- Franssila, Samul ...
- Artiklar i publikationen
- 24<sup>th</sup> ...
- Av lärosätet
- Uppsala universitet
Sök utanför SwePub
- Sök vidare i:
- Google Book Search
- Google Scholar
Kungliga biblioteket hanterar dina personuppgifter i enlighet med EU:s dataskyddsförordning (2018), GDPR. Läs mer om hur det funkar här.
Så här hanterar KB dina uppgifter vid användning av denna tjänst.
- Copyright © LIBRIS - Nationella bibliotekssystem
- LIBRIS.kb.se
