Optimal target-sputtering mode for Aluminum Nitride thin film deposition by high power pulse magnetron sputtering (HPPMS)

Ma, D. L. (författare)

Southwest Jiaotong University,Key Laboratory of Advanced Technologies of Materials

Wu, B. H. (författare)

Southwest Jiaotong University,Key Laboratory of Advanced Technologies of Materials

Deng, Q. Y. (författare)

Southwest Jiaotong University,Key Laboratory of Advanced Technologies of Materials

visa fler...

Silins, Kaspars, 1987- (författare)

Uppsala universitet,Elektricitetslära,The Plasma group

Chen, C. Z. (författare)

Southwest Jiaotong University,Key Laboratory of Advanced Technologies of Materials

Yang, W. M. (författare)

China Academy of Engineering Physics,Institute of Mechanical Manufacturing Technology

Leng, Y.X. (författare)

Southwest Jiaotong University,Key Laboratory of Advanced Technologies of Materials

Huang, N. (författare)

Southwest Jiaotong University,Key Laboratory of Advanced Technologies of Materials

visa färre...

 (creator_code:org_t)

Engelska.

Relaterad länk:

https://urn.kb.se/re...

• Annan publikation (övrigt vetenskapligt/konstnärligt)