Sökning: id:"swepub:oai:DiVA.org:uu-44087" >
Magnetron sputtered...
Magnetron sputtered epitaxial single-phase Ti3SiC2 thin films
-
- Palmquist, Jens-Petter (författare)
- Uppsala universitet,Institutionen för materialkemi,Oorganisk kemi,oorganisk kemi,Uppsala University, Department of Materials Chemistry, Ångström Laboratory, P.O. Box 538, SE-751 21 Uppsala, Sweden
-
- Jansson, Ulf (författare)
- Uppsala universitet,Institutionen för materialkemi,Oorganisk kemi,oorganisk kemi,Uppsala University, Department of Materials Chemistry, Ångström Laboratory, P.O. Box 538, SE-751 21 Uppsala, Sweden
-
- Seppänen, Timo (författare)
- Linköpings universitet,Uppsala universitet,Oorganisk kemi,Tekniska högskolan,Tunnfilmsfysik
-
visa fler...
-
- Persson, Per (författare)
- Linköpings universitet,Uppsala universitet,Oorganisk kemi,Tekniska högskolan,Tunnfilmsfysik,ABB Group Services Center AB, Corporate Research, SE-721 78 Västerås, Sweden
-
- Birch, Jens (författare)
- Linköpings universitet,Uppsala universitet,Oorganisk kemi,Tekniska högskolan,Tunnfilmsfysik
-
- Hultman, Lars (författare)
- Linköpings universitet,Uppsala universitet,Oorganisk kemi,Tekniska högskolan,Tunnfilmsfysik
-
- Isberg, P. (författare)
- Uppsala universitet,Oorganisk kemi
-
visa färre...
-
(creator_code:org_t)
- AIP Publishing, 2002
- 2002
- Engelska.
-
Ingår i: Applied Physics Letters. - : AIP Publishing. - 0003-6951 .- 1077-3118. ; 81:5, s. 835-837
- Relaterad länk:
-
https://urn.kb.se/re...
-
visa fler...
-
https://doi.org/10.1...
-
https://urn.kb.se/re...
-
visa färre...
Abstract
Ämnesord
Stäng
- We report on the synthesis and characterization of epitaxial single-crystalline Ti3SiC2 films (Mn + 1AXn-phase). Two original deposition techniques are described, (i) magnetron sputtering from Ti3SiC2 compound target and (ii) sputtering from individual titanium and silicon targets with co-evaporated C60 as carbon source. Epitaxial Ti3SiC2 films of single-crystal quality were grown at 900 °C with both techniques. Epitaxial TiC(111) deposited in situ on MgO(111) by Ti sputtering using C60 as carbon source was used to nucleate the Ti3SiC2 films. The epitaxial relationship was found to be Ti3SiC2(0001)//TiC(111)//MgO(111) with the in-plane orientation Ti3SiC2[100]//TiC[101]//MgO[101].
Ämnesord
- NATURVETENSKAP -- Kemi -- Oorganisk kemi (hsv//swe)
- NATURAL SCIENCES -- Chemical Sciences -- Inorganic Chemistry (hsv//eng)
Nyckelord
- Inorganic chemistry
- Oorganisk kemi
- TECHNOLOGY
Publikations- och innehållstyp
- ref (ämneskategori)
- art (ämneskategori)
Hitta via bibliotek
Till lärosätets databas