id:"swepub:oai:DiVA.org:uu-67898"
Sökning: id:"swepub:oai:DiVA.org:uu-67898" > A Shallow and Deep ...
- 1 av 1
- Föregående post
- Nästa post
- Till träfflistan
A Shallow and Deep Trench Isolation Process Module for RF BiCMOS
-
- Forsberg, Markus (författare)
- Uppsala universitet,Institutionen för teknikvetenskaper,Elektronik,Fasta tillståndets elektronik
- Johansson, T (författare)
- Liu, W (författare)
- visa fler...
- Vellaikal, M (författare)
- visa färre...
- (creator_code:org_t)
- 2004
- 2004
- Engelska.
- Ingår i: J Electrochem Soc. ; 151:12, s. G839-G846
- Tidskriftsartikel (refereegranskat)
- 1 av 1
- Föregående post
- Nästa post
- Till träfflistan
Hitta mer i SwePub
- Av författaren/redakt...
- Forsberg, Markus
- Johansson, T
- Liu, W
- Vellaikal, M
- Artiklar i publikationen
- J Electrochem So ...
- Av lärosätet
- Uppsala universitet
Sök utanför SwePub
- Sök vidare i:
- Google Book Search
- Google Scholar
Kungliga biblioteket hanterar dina personuppgifter i enlighet med EU:s dataskyddsförordning (2018), GDPR. Läs mer om hur det funkar här.
Så här hanterar KB dina uppgifter vid användning av denna tjänst.
- Copyright © LIBRIS - Nationella bibliotekssystem
- LIBRIS.kb.se
