id:"swepub:oai:DiVA.org:uu-92225"
Sökning: id:"swepub:oai:DiVA.org:uu-92225" > Investigation of th...
- 1 av 1
- Föregående post
- Nästa post
- Till träfflistan
Investigation of the thermal stability of reactively sputter deposited TiN MOS gate electrodes
- Sjöblom, Gustaf (författare)
-
- Westlinder, Jörgen (författare)
- Uppsala universitet,Institutionen för teknikvetenskaper
- Olsson, Jörgen (författare)
- (creator_code:org_t)
- Odefinierat språk.
- Ingår i: IEEE Transaction on electron devices.
- Tidskriftsartikel (refereegranskat)
Hitta via bibliotek
- IEEE Transaction on electron devices (Sök värdpublikationen i LIBRIS)
Till lärosätets databas
- 1 av 1
- Föregående post
- Nästa post
- Till träfflistan
Hitta mer i SwePub
- Av författaren/redakt...
- Sjöblom, Gustaf
- Westlinder, Jörg ...
- Olsson, Jörgen
- Artiklar i publikationen
- IEEE Transaction ...
- Av lärosätet
- Uppsala universitet
Sök utanför SwePub
- Sök vidare i:
- Google Book Search
- Google Scholar
Kungliga biblioteket hanterar dina personuppgifter i enlighet med EU:s dataskyddsförordning (2018), GDPR. Läs mer om hur det funkar här.
Så här hanterar KB dina uppgifter vid användning av denna tjänst.
- Copyright © LIBRIS - Nationella bibliotekssystem
- LIBRIS.kb.se
