SwePub
Sök i LIBRIS databas

  Utökad sökning

id:"swepub:oai:gup.ub.gu.se/71136"
 

Sökning: id:"swepub:oai:gup.ub.gu.se/71136" > Origin of complex i...

Origin of complex impact craters on native oxide coated silicon surfaces

Samela, J. (författare)
Nordlund, K. (författare)
Popok, Vladimir, 1966 (författare)
Gothenburg University,Göteborgs universitet,Institutionen för fysik (GU),Department of Physics (GU)
visa fler...
Campbell, Eleanor E B, 1960 (författare)
Gothenburg University,Göteborgs universitet,Institutionen för fysik (GU),Department of Physics (GU)
visa färre...
 (creator_code:org_t)
2008
2008
Engelska.
Ingår i: Physical Review B. ; 77
  • Tidskriftsartikel (refereegranskat)
Abstract Ämnesord
Stäng  
  • Crater structures induced by impact of keV-energy Ar cluster ions on silicon surfaces are measured with atomic force microscopy. Complex crater structures consisting of a central hillock and outer rim are observed more often on targets covered with a native silicon oxide layer than on targets without the oxide layer. To explain the formation of these complex crater structures, classical molecular dynamics simulations of Ar cluster impacts on oxide coated silicon surfaces, as well as on bulk amorphous silica, amorphous Si, and crystalline Si substrates, are carried out. The diameter of the simulated hillock structures in the silicon oxide layer is in agreement with the experimental results, but the simulations cannot directly explain the height of hillocks and the outer rim structures when the oxide coated silicon substrate is free of defects. However, in simulations of 5 keV/atom Ar12 cluster impacts, transient displacements of the amorphous silicon or silicon oxide substrate surfaces are induced in an approximately 50 nm wide area surrounding the impact point. In silicon oxide, the transient displacements induce small topographical changes on the surface in the vicinity of the central hillock. The comparison of cluster stopping mechanisms in the various silicon oxide and silicon structures shows that the largest lateral momentum is induced in the silicon oxide layer during the impact; thus, the transient displacements on the surface are stronger than in the other substrates. This can be a reason for the higher frequency of occurrence of the complex craters on oxide coated silicon.

Ämnesord

NATURVETENSKAP  -- Fysik -- Subatomär fysik (hsv//swe)
NATURAL SCIENCES  -- Physical Sciences -- Subatomic Physics (hsv//eng)
NATURVETENSKAP  -- Fysik -- Atom- och molekylfysik och optik (hsv//swe)
NATURAL SCIENCES  -- Physical Sciences -- Atom and Molecular Physics and Optics (hsv//eng)
NATURVETENSKAP  -- Fysik -- Den kondenserade materiens fysik (hsv//swe)
NATURAL SCIENCES  -- Physical Sciences -- Condensed Matter Physics (hsv//eng)

Nyckelord

cluster implantation
theory of impact phenomena
numerical simulations
atomic force microscopy

Publikations- och innehållstyp

ref (ämneskategori)
art (ämneskategori)

Hitta via bibliotek

Till lärosätets databas

Hitta mer i SwePub

Av författaren/redakt...
Samela, J.
Nordlund, K.
Popok, Vladimir, ...
Campbell, Eleano ...
Om ämnet
NATURVETENSKAP
NATURVETENSKAP
och Fysik
och Subatomär fysik
NATURVETENSKAP
NATURVETENSKAP
och Fysik
och Atom och molekyl ...
NATURVETENSKAP
NATURVETENSKAP
och Fysik
och Den kondenserade ...
Artiklar i publikationen
Av lärosätet
Göteborgs universitet

Sök utanför SwePub

Kungliga biblioteket hanterar dina personuppgifter i enlighet med EU:s dataskyddsförordning (2018), GDPR. Läs mer om hur det funkar här.
Så här hanterar KB dina uppgifter vid användning av denna tjänst.

 
pil uppåt Stäng

Kopiera och spara länken för att återkomma till aktuell vy