id:"swepub:oai:lup.lub.lu.se:0f7d7776-e4ea-4a73-99bf-a8a08947abae"
Sökning: id:"swepub:oai:lup.lub.lu.se:0f7d7776-e4ea-4a73-99bf-a8a08947abae" > New high resolution...
- 1 av 1
- Föregående post
- Nästa post
- Till träfflistan
New high resolution negative resist mr-L 6000.1 XP for electron beam and nanoimprint lithography
-
- Maximov, Ivan (författare)
- Lund University,Lunds universitet,Fasta tillståndets fysik,Fysiska institutionen,Institutioner vid LTH,Lunds Tekniska Högskola,Solid State Physics,Department of Physics,Departments at LTH,Faculty of Engineering, LTH
-
- Beck, Marc (författare)
- Lund University,Lunds universitet,Fasta tillståndets fysik,Fysiska institutionen,Institutioner vid LTH,Lunds Tekniska Högskola,Solid State Physics,Department of Physics,Departments at LTH,Faculty of Engineering, LTH
-
- Carlberg, Patrick (författare)
- Lund University,Lunds universitet,Fasta tillståndets fysik,Fysiska institutionen,Institutioner vid LTH,Lunds Tekniska Högskola,Solid State Physics,Department of Physics,Departments at LTH,Faculty of Engineering, LTH
- visa fler...
- Pfeiffer, K. (författare)
- Reuther, F. (författare)
- Gruetzer, G. (författare)
- Schulz, H. (författare)
- Wissen, M. (författare)
- Scheer, H.-C. (författare)
- visa färre...
- (creator_code:org_t)
- 2002
- 2002
- Engelska 2 s.
- Ingår i: 7th International Conference on Nanometer-Scale Science and Technology and 21st European Conference on Surface Science.
- Konferensbidrag (refereegranskat)
Abstract
Ämnesord
Stäng
- We present the characterization results of a new high resolution negative electron beam resist mr-L 6000.1 XP. The resist can also be used as imprintable polymer in nanoimprint lithography with sub-100 nm resolution. The feature size achieved after e-beam exposure was about 50 nm with sensitivity of 2-4 μC/cm2. Studies of the resist properties as a function of chemical composition and development conditions are also presented
Ämnesord
- NATURVETENSKAP -- Fysik -- Den kondenserade materiens fysik (hsv//swe)
- NATURAL SCIENCES -- Physical Sciences -- Condensed Matter Physics (hsv//eng)
Nyckelord
- nanoimprint lithography
- high resolution negative resist mr-L 6000.1 XP
- electron beam lithography
- imprintable polymer
- electron beam resolution
- 50 nm
- sensitivity
- chemical composition
- electron beam exposure
Publikations- och innehållstyp
- kon (ämneskategori)
- ref (ämneskategori)
Till lärosätets databas
- 1 av 1
- Föregående post
- Nästa post
- Till träfflistan
Hitta mer i SwePub
- Av författaren/redakt...
- Maximov, Ivan
- Beck, Marc
- Carlberg, Patric ...
- Montelius, Lars
- Pfeiffer, K.
- Reuther, F.
- visa fler...
- Gruetzer, G.
- Schulz, H.
- Wissen, M.
- Scheer, H.-C.
- visa färre...
- Om ämnet
-
- NATURVETENSKAP
- NATURVETENSKAP
- och Fysik
- och Den kondenserade ...
- Artiklar i publikationen
- 7th Internationa ...
- Av lärosätet
- Lunds universitet
Sök utanför SwePub
- Sök vidare i:
- Google Book Search
- Google Scholar
Kungliga biblioteket hanterar dina personuppgifter i enlighet med EU:s dataskyddsförordning (2018), GDPR. Läs mer om hur det funkar här.
Så här hanterar KB dina uppgifter vid användning av denna tjänst.
- Copyright © LIBRIS - Nationella bibliotekssystem
- LIBRIS.kb.se
