id:"swepub:oai:lup.lub.lu.se:3c504f58-f5c0-4573-b1d3-298d76700aad"
Sökning: id:"swepub:oai:lup.lub.lu.se:3c504f58-f5c0-4573-b1d3-298d76700aad" > Nanoimprint lithogr...
- 1 av 1
- Föregående post
- Nästa post
- Till träfflistan
Nanoimprint lithography for the fabrication of interdigitated cantilever arrays
-
- Luo, Gang (författare)
- Lund University,Lunds universitet,Fasta tillståndets fysik,Fysiska institutionen,Institutioner vid LTH,Lunds Tekniska Högskola,Solid State Physics,Department of Physics,Departments at LTH,Faculty of Engineering, LTH
-
- Maximov, Ivan (författare)
- Lund University,Lunds universitet,Fasta tillståndets fysik,Fysiska institutionen,Institutioner vid LTH,Lunds Tekniska Högskola,Solid State Physics,Department of Physics,Departments at LTH,Faculty of Engineering, LTH
-
- Adolph, David (författare)
- Lund University,Lunds universitet,Fasta tillståndets fysik,Fysiska institutionen,Institutioner vid LTH,Lunds Tekniska Högskola,Solid State Physics,Department of Physics,Departments at LTH,Faculty of Engineering, LTH
- visa fler...
- Zhu, T (författare)
- Liu, Z (författare)
- visa färre...
- (creator_code:org_t)
- 2006-03-15
- 2006
- Engelska.
- Ingår i: Nanotechnology. - : IOP Publishing. - 0957-4484 .- 1361-6528. ; 17:8, s. 1906-1910
- Tidskriftsartikel (refereegranskat)
Abstract
Ämnesord
Stäng
- We report on the realization of a novel interdigitated cantilever array with electrostatic control of the shape of the interdigitated array. It consists of an array of SiO2/metal double-finger cantilevers in a grating configuration together with an electrical connection part. The complete grating structure is fabricated with nanoimprint lithography, UV lithography and reactive ion etching. The patterns of the cantilever arrays are defined by nanoimprint lithography. The electrical contact pads are defined and aligned with the imprinted grating pattern by UV lithography. The two steps of reactive ion etching are optimized to get vertical sidewalls of the SiO2 cantilevers and finally to release them from the Si substrate. By applying a bias, the shape of the cantilever array can be altered due to the electrostatic force. The dimensions of the cantilevers and the spacing between them are optimized to achieve the desired functional operating characteristics of the structures. Since the fabrication scheme is based on nanoimprint lithography, such electrostatically controlled periodic structures may be relatively easily and non-expensively realized in various configurations, allowing them to function as optical switching elements, electrical filters, mass sensors, etc.
Ämnesord
- TEKNIK OCH TEKNOLOGIER -- Nanoteknik -- Nanoteknik (hsv//swe)
- ENGINEERING AND TECHNOLOGY -- Nano-technology -- Nano-technology (hsv//eng)
Publikations- och innehållstyp
- art (ämneskategori)
- ref (ämneskategori)
- 1 av 1
- Föregående post
- Nästa post
- Till träfflistan
Hitta mer i SwePub
- Av författaren/redakt...
- Luo, Gang
- Maximov, Ivan
- Adolph, David
- Graczyk, Mariusz
- Carlberg, Patric ...
- Ghatnekar-Nilsso ...
- visa fler...
- Hessman, Dan
- Zhu, T
- Liu, Z
- Xu, Hongqi
- Montelius, Lars
- visa färre...
- Om ämnet
-
- TEKNIK OCH TEKNOLOGIER
- TEKNIK OCH TEKNO ...
- och Nanoteknik
- och Nanoteknik
- Artiklar i publikationen
- Nanotechnology
- Av lärosätet
- Lunds universitet
Sök utanför SwePub
- Sök vidare i:
- Google Book Search
- Google Scholar
Kungliga biblioteket hanterar dina personuppgifter i enlighet med EU:s dataskyddsförordning (2018), GDPR. Läs mer om hur det funkar här.
Så här hanterar KB dina uppgifter vid användning av denna tjänst.
- Copyright © LIBRIS - Nationella bibliotekssystem
- LIBRIS.kb.se
