id:"swepub:oai:lup.lub.lu.se:93d20eba-b21b-4380-a2da-96f51c2ef2e7"
Sökning: id:"swepub:oai:lup.lub.lu.se:93d20eba-b21b-4380-a2da-96f51c2ef2e7" > Efficient methods o...
- 1 av 1
- Föregående post
- Nästa post
- Till träfflistan
Efficient methods of nanoimprint stamp cleaning based on imprint self-cleaning effect.
- Meng, Fantao (författare)
-
- Luo, Gang (författare)
- Lund University,Lunds universitet,Fasta tillståndets fysik,Fysiska institutionen,Institutioner vid LTH,Lunds Tekniska Högskola,Solid State Physics,Department of Physics,Departments at LTH,Faculty of Engineering, LTH
-
- Maximov, Ivan (författare)
- Lund University,Lunds universitet,Fasta tillståndets fysik,Fysiska institutionen,Institutioner vid LTH,Lunds Tekniska Högskola,Solid State Physics,Department of Physics,Departments at LTH,Faculty of Engineering, LTH
- visa fler...
- Zhou, Ye (författare)
- Heidari, Babak (författare)
- Chu, Jinkui (författare)
- visa färre...
- (creator_code:org_t)
- 2011-03-17
- 2011
- Engelska.
- Ingår i: Nanotechnology. - : IOP Publishing. - 0957-4484 .- 1361-6528. ; 22:18
- Tidskriftsartikel (refereegranskat)
Abstract
Ämnesord
Stäng
- Nanoimprint lithography (NIL) is a nonconventional lithographic technique that promises low-cost, high-throughput patterning of structures with sub-10 nm resolution. Contamination of nanoimprint stamps is one of the key obstacles to industrialize the NIL technology. Here, we report two efficient approaches for removal of typical contamination of particles and residual resist from stamps: thermal and ultraviolet (UV) imprinting cleaning-both based on the self-cleaning effect of imprinting process. The contaminated stamps were imprinted onto polymer substrates and after demolding, they were treated with an organic solvent. The images of the stamp before and after the cleaning processes show that the two cleaning approaches can effectively remove contamination from stamps without destroying the stamp structures. The contact angles of the stamp before and after the cleaning processes indicate that the cleaning methods do not significantly degrade the anti-sticking layer. The cleaning processes reported in this work could also be used for substrate cleaning.
Ämnesord
- TEKNIK OCH TEKNOLOGIER -- Nanoteknik -- Nanoteknik (hsv//swe)
- ENGINEERING AND TECHNOLOGY -- Nano-technology -- Nano-technology (hsv//eng)
Publikations- och innehållstyp
- art (ämneskategori)
- ref (ämneskategori)
- 1 av 1
- Föregående post
- Nästa post
- Till träfflistan
Hitta mer i SwePub
- Av författaren/redakt...
- Meng, Fantao
- Luo, Gang
- Maximov, Ivan
- Montelius, Lars
- Zhou, Ye
- Nilsson, Lars
- visa fler...
- Carlberg, Patric ...
- Heidari, Babak
- Chu, Jinkui
- Xu, Hongqi
- visa färre...
- Om ämnet
-
- TEKNIK OCH TEKNOLOGIER
- TEKNIK OCH TEKNO ...
- och Nanoteknik
- och Nanoteknik
- Artiklar i publikationen
- Nanotechnology
- Av lärosätet
- Lunds universitet
Sök utanför SwePub
- Sök vidare i:
- Google Book Search
- Google Scholar
Kungliga biblioteket hanterar dina personuppgifter i enlighet med EU:s dataskyddsförordning (2018), GDPR. Läs mer om hur det funkar här.
Så här hanterar KB dina uppgifter vid användning av denna tjänst.
- Copyright © LIBRIS - Nationella bibliotekssystem
- LIBRIS.kb.se
