Sökning: id:"swepub:oai:lup.lub.lu.se:a8c53c92-76a9-4a75-ae9f-b4b3948622ff" >
Lithography of high...
Lithography of high spatial density biosensor structures with sub-100 nm spacing by MeV proton beam writing with minimal proximity effect
-
- Whitlow, Harry J (författare)
- Lund University,Lunds universitet,Kärnfysik,Fysiska institutionen,Institutioner vid LTH,Lunds Tekniska Högskola,Nuclear physics,Department of Physics,Departments at LTH,Faculty of Engineering, LTH
-
- Ng, May Ling (författare)
- Lund University,Lunds universitet,MAX IV-laboratoriet,MAX IV Laboratory
-
- Auzelyte, Vaida (författare)
- Lund University,Lunds universitet,Kärnfysik,Fysiska institutionen,Institutioner vid LTH,Lunds Tekniska Högskola,Nuclear physics,Department of Physics,Departments at LTH,Faculty of Engineering, LTH
-
visa fler...
-
- Maximov, Ivan (författare)
- Lund University,Lunds universitet,Fasta tillståndets fysik,Fysiska institutionen,Institutioner vid LTH,Lunds Tekniska Högskola,Solid State Physics,Department of Physics,Departments at LTH,Faculty of Engineering, LTH
-
- Montelius, Lars (författare)
- Lund University,Lunds universitet,Fasta tillståndets fysik,Fysiska institutionen,Institutioner vid LTH,Lunds Tekniska Högskola,Solid State Physics,Department of Physics,Departments at LTH,Faculty of Engineering, LTH
-
van Kan, JA (författare)
-
Bettiol, AA (författare)
-
Watt, F (författare)
-
visa färre...
-
(creator_code:org_t)
- 2003-11-26
- 2004
- Rumänska.
-
Ingår i: Nanotechnology. - : IOP Publishing. - 0957-4484 .- 1361-6528. ; 15:1, s. 223-226
- Relaterad länk:
-
http://dx.doi.org/10...
-
visa fler...
-
https://lup.lub.lu.s...
-
https://doi.org/10.1...
-
visa färre...
Abstract
Ämnesord
Stäng
- Metal electrode structures for biosensors with a high spatial density and similar to85 nm gaps have been produced using focused megaelectronvolt (MeV) proton beam writing of poly-(methyl methacrylate) positive resist combined with metal lift-off. The minimal proximity exposure and straight proton trajectories in (similar to100 nm) resist layers for focused MeV proton beam writing are strongly indicative that ultimate electrode gap widths approaching a few nanometres are achievable.
Ämnesord
- TEKNIK OCH TEKNOLOGIER -- Nanoteknik -- Nanoteknik (hsv//swe)
- ENGINEERING AND TECHNOLOGY -- Nano-technology -- Nano-technology (hsv//eng)
Publikations- och innehållstyp
- art (ämneskategori)
- ref (ämneskategori)
Hitta via bibliotek
Till lärosätets databas