SwePub
Sök i LIBRIS databas

  Utökad sökning

id:"swepub:oai:research.chalmers.se:07ce859f-8c73-4460-ad1a-c02ad506e1ed"
 

Sökning: id:"swepub:oai:research.chalmers.se:07ce859f-8c73-4460-ad1a-c02ad506e1ed" > HfO2 gate dielectri...

HfO2 gate dielectrics on strained-Si and strained-SiGe layers

Johansson, Mikael (författare)
Chalmers tekniska högskola,Chalmers University of Technology
Yousif, Mahdi, 1963 (författare)
Chalmers tekniska högskola,Chalmers University of Technology
Lundgren, Per, 1968 (författare)
Chalmers tekniska högskola,Chalmers University of Technology
visa fler...
Bengtsson, Stefan, 1961 (författare)
Chalmers tekniska högskola,Chalmers University of Technology
Sundqvist, J. (författare)
Harsta, Anders (författare)
Radamson, H. H. (författare)
visa färre...
 (creator_code:org_t)
2003
2003
Engelska.
Ingår i: Semiconductor Science And Technology. ; 18:9, s. 820-826
  • Tidskriftsartikel (refereegranskat)
Ämnesord
Stäng  

Ämnesord

TEKNIK OCH TEKNOLOGIER  -- Elektroteknik och elektronik -- Annan elektroteknik och elektronik (hsv//swe)
ENGINEERING AND TECHNOLOGY  -- Electrical Engineering, Electronic Engineering, Information Engineering -- Other Electrical Engineering, Electronic Engineering, Information Engineering (hsv//eng)

Publikations- och innehållstyp

art (ämneskategori)
ref (ämneskategori)

Hitta via bibliotek

Till lärosätets databas

Sök utanför SwePub

Kungliga biblioteket hanterar dina personuppgifter i enlighet med EU:s dataskyddsförordning (2018), GDPR. Läs mer om hur det funkar här.
Så här hanterar KB dina uppgifter vid användning av denna tjänst.

 
pil uppåt Stäng

Kopiera och spara länken för att återkomma till aktuell vy