Sökning: id:"swepub:oai:research.chalmers.se:b4099902-06b1-444e-bb4e-671e4864bcbe" >
Chemical vapor depo...
Chemical vapor deposition of TiN on a CoCrFeNi multi-principal element alloy substrate
-
- Böör, Katalin (författare)
- Uppsala universitet,Oorganisk kemi
-
- Qiu, Ren, 1993 (författare)
- Chalmers tekniska högskola,Chalmers University of Technology,Chalmers Univ Technol, Dept Phys, SE-41296 Gothenburg, Sweden.
-
- Forslund, Axel (författare)
- KTH,Materialvetenskap,Kungliga Tekniska Högskolan (KTH),Royal Institute of Technology (KTH),Royal Inst Technol, Dept Mat Sci & Engn, SE-10044 Stockholm, Sweden.
-
visa fler...
-
- Bäcke, Olof, 1984 (författare)
- Chalmers tekniska högskola,Chalmers University of Technology,Chalmers Univ Technol, Dept Phys, SE-41296 Gothenburg, Sweden.
-
- Larsson, Henrik (författare)
- KTH,Metallografi,Kungliga Tekniska Högskolan (KTH),Royal Institute of Technology (KTH),Royal Inst Technol, Dept Mat Sci & Engn, SE-10044 Stockholm, Sweden.
-
- Lindahl, Erik (författare)
- Sandvik Group AB,AB Sandvik Coromant, SE-12679 Hagersten, Sweden.
-
- Halvarsson, Mats, 1965 (författare)
- Chalmers tekniska högskola,Chalmers University of Technology,Chalmers Univ Technol, Dept Phys, SE-41296 Gothenburg, Sweden.
-
- Boman, Mats, 1961 (författare)
- Uppsala universitet,Oorganisk kemi
-
- von Fieandt, L. (författare)
- Sandvik Group AB,AB Sandvik Coromant, SE-12679 Hagersten, Sweden.
-
visa färre...
-
(creator_code:org_t)
- Elsevier BV, 2020
- 2020
- Engelska.
-
Ingår i: Surface and Coatings Technology. - : Elsevier BV. - 0257-8972 .- 1879-3347. ; 393
- Relaterad länk:
-
https://research.cha... (primary) (free)
-
visa fler...
-
https://doi.org/10.1...
-
https://doi.org/10.1...
-
https://uu.diva-port... (primary) (Raw object)
-
https://research.cha...
-
https://research.cha...
-
https://doi.org/10.1...
-
https://urn.kb.se/re...
-
https://urn.kb.se/re...
-
visa färre...
Abstract
Ämnesord
Stäng
- The reactivity of a quaternary multi-principal element alloy (MPEA), CoCrFeNi, as a substrate in thermal halide chemical vapor deposition (CVD) processes for titanium nitride (TiN) coatings was studied. The coatings were deposited at 850 °C–950 °C using TiCl4, H2 and N2 precursors. The coating microstructures were characterized using X-ray diffraction (XRD), scanning and transmission electron microscopy (SEM/TEM) with energy dispersive X-ray spectroscopy (EDS). Thermodynamic calculations of substrate and coating stability for a gas phase environment of N2 and H2 within a temperature range relevant for the experiments showed that Cr is expected to form hexagonal Cr2N and cubic (Ti1−ε1Crε1)N or (Cr1−ε2Tiε2)N phases. These phases could however not be discerned in the samples by XRD after the depositions. Cr was detected at the grain boundaries and the top surface by EDS for a sample synthesized at 950 °C. Grain boundary and surface diffusion, respectively, were the suggested mechanisms for Cr transport into the coating and onto the top surface. Although thermodynamic calculations indicated that Cr is the most easily etched component of the CoCrFeNi alloy to form gaseous chlorides in similar concentrations to that of the residual Ti-chlorides, no sign of etching were found according to the imaging of the sample cross-sections using SEM and TEM. Cross-section and top surface images further confirmed that the choice of substrate had no significant detrimental influence on the film growth or microstructure.
Ämnesord
- NATURVETENSKAP -- Kemi -- Oorganisk kemi (hsv//swe)
- NATURAL SCIENCES -- Chemical Sciences -- Inorganic Chemistry (hsv//eng)
- TEKNIK OCH TEKNOLOGIER -- Materialteknik -- Metallurgi och metalliska material (hsv//swe)
- ENGINEERING AND TECHNOLOGY -- Materials Engineering -- Metallurgy and Metallic Materials (hsv//eng)
- TEKNIK OCH TEKNOLOGIER -- Elektroteknik och elektronik -- Annan elektroteknik och elektronik (hsv//swe)
- ENGINEERING AND TECHNOLOGY -- Electrical Engineering, Electronic Engineering, Information Engineering -- Other Electrical Engineering, Electronic Engineering, Information Engineering (hsv//eng)
- TEKNIK OCH TEKNOLOGIER -- Materialteknik -- Bearbetnings-, yt- och fogningsteknik (hsv//swe)
- ENGINEERING AND TECHNOLOGY -- Materials Engineering -- Manufacturing, Surface and Joining Technology (hsv//eng)
- NATURVETENSKAP -- Kemi -- Materialkemi (hsv//swe)
- NATURAL SCIENCES -- Chemical Sciences -- Materials Chemistry (hsv//eng)
Nyckelord
- Calphad
- multi-principle element alloy
- transmission electron microscopy
- X-ray diffraction
- Titanium nitride
- chemical vapour deposition
Publikations- och innehållstyp
- art (ämneskategori)
- ref (ämneskategori)
Hitta via bibliotek
Till lärosätets databas
- Av författaren/redakt...
-
Böör, Katalin
-
Qiu, Ren, 1993
-
Forslund, Axel
-
Bäcke, Olof, 198 ...
-
Larsson, Henrik
-
Lindahl, Erik
-
visa fler...
-
Halvarsson, Mats ...
-
Boman, Mats, 196 ...
-
von Fieandt, L.
-
visa färre...
- Om ämnet
-
- NATURVETENSKAP
-
NATURVETENSKAP
-
och Kemi
-
och Oorganisk kemi
-
- TEKNIK OCH TEKNOLOGIER
-
TEKNIK OCH TEKNO ...
-
och Materialteknik
-
och Metallurgi och m ...
-
- TEKNIK OCH TEKNOLOGIER
-
TEKNIK OCH TEKNO ...
-
och Elektroteknik oc ...
-
och Annan elektrotek ...
-
- TEKNIK OCH TEKNOLOGIER
-
TEKNIK OCH TEKNO ...
-
och Materialteknik
-
och Bearbetnings yt ...
-
- NATURVETENSKAP
-
NATURVETENSKAP
-
och Kemi
-
och Materialkemi
- Artiklar i publikationen
-
Surface and Coat ...
- Av lärosätet
-
Chalmers tekniska högskola
-
Kungliga Tekniska Högskolan
-
Uppsala universitet