Sökning: id:"swepub:oai:research.chalmers.se:dfb3df8a-a7a0-4313-b062-fb537a99ef3c" >
Characterization of...
Characterization of Interface Defects
-
- Hurley, P.K. (författare)
- Tyndall National Institute at National University of Ireland, Cork
-
- Engström, Olof, 1943 (författare)
- Chalmers tekniska högskola,Chalmers University of Technology
-
- Bauza, D. (författare)
- Institut de la Microelectronique, Electromagnetisme et Photonique - Laboratoire d'Hyperfrequences et de Caracterisation
-
visa fler...
-
- Ghibaudo, G. (författare)
- Institut de la Microelectronique, Electromagnetisme et Photonique - Laboratoire d'Hyperfrequences et de Caracterisation
-
visa färre...
-
(creator_code:org_t)
- 2013-03-05
- 2013
- Engelska.
-
Ingår i: Nanoscale CMOS (ed. Balestra). - : Wiley. ; , s. 545-573
- Relaterad länk:
-
http://dx.doi.org/10...
-
visa fler...
-
https://research.cha...
-
https://doi.org/10.1...
-
visa färre...
Ämnesord
Stäng
Ämnesord
- TEKNIK OCH TEKNOLOGIER -- Elektroteknik och elektronik (hsv//swe)
- ENGINEERING AND TECHNOLOGY -- Electrical Engineering, Electronic Engineering, Information Engineering (hsv//eng)
Nyckelord
- Interface defect
- Low frequency noise
- Charge pumping
- LF noise
- C-V response
Publikations- och innehållstyp
- kap (ämneskategori)
- vet (ämneskategori)
Hitta via bibliotek
Till lärosätets databas