SwePub
Sök i LIBRIS databas

  Utökad sökning

id:"swepub:oai:research.chalmers.se:dfb3df8a-a7a0-4313-b062-fb537a99ef3c"
 

Sökning: id:"swepub:oai:research.chalmers.se:dfb3df8a-a7a0-4313-b062-fb537a99ef3c" > Characterization of...

Characterization of Interface Defects

Hurley, P.K. (författare)
Tyndall National Institute at National University of Ireland, Cork
Engström, Olof, 1943 (författare)
Chalmers tekniska högskola,Chalmers University of Technology
Bauza, D. (författare)
Institut de la Microelectronique, Electromagnetisme et Photonique - Laboratoire d'Hyperfrequences et de Caracterisation
visa fler...
Ghibaudo, G. (författare)
Institut de la Microelectronique, Electromagnetisme et Photonique - Laboratoire d'Hyperfrequences et de Caracterisation
visa färre...
 (creator_code:org_t)
2013-03-05
2013
Engelska.
Ingår i: Nanoscale CMOS (ed. Balestra). - : Wiley. ; , s. 545-573
  • Bokkapitel (övrigt vetenskapligt/konstnärligt)
Ämnesord
Stäng  

Ämnesord

TEKNIK OCH TEKNOLOGIER  -- Elektroteknik och elektronik (hsv//swe)
ENGINEERING AND TECHNOLOGY  -- Electrical Engineering, Electronic Engineering, Information Engineering (hsv//eng)

Nyckelord

Interface defect
Low frequency noise
Charge pumping
LF noise
C-V response

Publikations- och innehållstyp

kap (ämneskategori)
vet (ämneskategori)

Hitta via bibliotek

Till lärosätets databas

Hitta mer i SwePub

Av författaren/redakt...
Hurley, P.K.
Engström, Olof, ...
Bauza, D.
Ghibaudo, G.
Om ämnet
TEKNIK OCH TEKNOLOGIER
TEKNIK OCH TEKNO ...
och Elektroteknik oc ...
Artiklar i publikationen
Av lärosätet
Chalmers tekniska högskola

Sök utanför SwePub

Kungliga biblioteket hanterar dina personuppgifter i enlighet med EU:s dataskyddsförordning (2018), GDPR. Läs mer om hur det funkar här.
Så här hanterar KB dina uppgifter vid användning av denna tjänst.

 
pil uppåt Stäng

Kopiera och spara länken för att återkomma till aktuell vy