Self-aligned, gate-last process for vertical InAs nanowire MOSFETs on Si

Berg, Martin (författare)

Lund University,Lunds universitet,Institutionen för elektro- och informationsteknik,Institutioner vid LTH,Lunds Tekniska Högskola,Department of Electrical and Information Technology,Departments at LTH,Faculty of Engineering, LTH

Persson, Karl-Magnus (författare)

Lund University,Lunds universitet,Institutionen för elektro- och informationsteknik,Institutioner vid LTH,Lunds Tekniska Högskola,Department of Electrical and Information Technology,Departments at LTH,Faculty of Engineering, LTH

Kilpi, Olli-Pekka (författare)

Lund University,Lunds universitet,Institutionen för elektro- och informationsteknik,Institutioner vid LTH,Lunds Tekniska Högskola,Department of Electrical and Information Technology,Departments at LTH,Faculty of Engineering, LTH

visa fler...

Svensson, Johannes (författare)

Lund University,Lunds universitet,Institutionen för elektro- och informationsteknik,Institutioner vid LTH,Lunds Tekniska Högskola,Department of Electrical and Information Technology,Departments at LTH,Faculty of Engineering, LTH

Lind, Erik (författare)

Lund University,Lunds universitet,Institutionen för elektro- och informationsteknik,Institutioner vid LTH,Lunds Tekniska Högskola,Department of Electrical and Information Technology,Departments at LTH,Faculty of Engineering, LTH

Wernersson, Lars-Erik (författare)

Lund University,Lunds universitet,Institutionen för elektro- och informationsteknik,Institutioner vid LTH,Lunds Tekniska Högskola,Department of Electrical and Information Technology,Departments at LTH,Faculty of Engineering, LTH

visa färre...

 (creator_code:org_t)

2016

2016

Engelska.

Ingår i: Technical Digest - International Electron Devices Meeting, IEDM. - 9781467398930 ; 2016-February

Relaterad länk:

https://portal.resea... (primary) (free)

visa fler...

http://dx.doi.org/10...

https://lup.lub.lu.s...

https://doi.org/10.1...

visa färre...

• Konferensbidrag (refereegranskat)