SwePub
Tyck till om SwePub Sök här!
Sök i LIBRIS databas

  Utökad sökning

WFRF:(Brenning Nils)
 

Sökning: WFRF:(Brenning Nils) > Modeling of high po...

Modeling of high power impulse magnetron sputtering discharges with graphite target

Eliasson, H. (författare)
Linköpings universitet,Plasma och ytbeläggningsfysik,Tekniska fakulteten
Rudolph, M. (författare)
Leibniz Inst Surface Engn IOM, Permoserstr 15, D-04318 Leipzig, Germany.
Brenning, Nils (författare)
Linköpings universitet,KTH,Rymd- och plasmafysik,Linköping Univ, Plasma & Coatings Phys Div, IFM Mat Phys, SE-58183 Linköping, Sweden.,Plasma och ytbeläggningsfysik,Tekniska fakulteten,KTH Royal Inst Technol, Sweden
visa fler...
Hajihoseini, H. (författare)
Univ Twente, MESA Inst Nanotechnol, Ind Focus Grp XUV Opt, Drienerlolaan 5, NL-7522 NB Enschede, Netherlands.
Zanaska, Michal (författare)
Linköpings universitet,Plasma och ytbeläggningsfysik,Tekniska fakulteten
Adriaans, M. J. (författare)
Eindhoven Univ Technol, Dept Appl Phys, Eindhoven, Netherlands.
Raadu, Michael A. (författare)
KTH,Rymd- och plasmafysik,KTH Royal Inst Technol, Sweden
Minea, T. M. (författare)
Univ Paris Saclay, Lab Phys Gaz & Plasmas LPGP, CNRS, UMR 8578, F-91405 Orsay, France.
Gudmundsson, Jon Tomas, 1965- (författare)
KTH,Rymd- och plasmafysik,Univ Iceland, Sci Inst, Dunhaga 3, IS-107 Reykjavik, Iceland.,KTH Royal Inst Technol, Sweden; Univ Iceland, Iceland
Lundin, Daniel (författare)
Linköpings universitet,Plasma och ytbeläggningsfysik,Tekniska fakulteten
visa färre...
 (creator_code:org_t)
2021-11-30
2021
Engelska.
Ingår i: Plasma sources science & technology. - : IOP Publishing Ltd. - 0963-0252 .- 1361-6595. ; 30:11
  • Tidskriftsartikel (refereegranskat)
Abstract Ämnesord
Stäng  
  • The ionization region model (IRM) is applied to model a high power impulse magnetron sputtering discharge in argon with a graphite target. Using the IRM, the temporal variation of the various species and the average electron energy, as well as internal parameters such as the ionization probability, back-attraction probability, and the ionized flux fraction of the sputtered species, is determined. It is found that thedischarge develops into working gas recycling and most of the discharge current at the cathode target surface is composed of Ar+ ions, which constitute over 90% of the discharge current, while the contribution of the C+ ions is always small (<5%), even for peak current densities close to 3 A cm(-2). For the target species, the time-averaged ionization probability is low, or 13-27%, the ion back-attraction probability during the pulse is high (>92%), and the ionized flux fraction is about 2%. It is concluded that in the operation range studied here it is a challenge to ionize carbon atoms, that are sputtered off of a graphite target in a magnetron sputtering discharge, when depositing amorphous carbon films.

Ämnesord

NATURVETENSKAP  -- Fysik -- Fusion, plasma och rymdfysik (hsv//swe)
NATURAL SCIENCES  -- Physical Sciences -- Fusion, Plasma and Space Physics (hsv//eng)

Nyckelord

magnetron sputtering discharge
graphite
high power impulse magnetron sputtering
carbon

Publikations- och innehållstyp

ref (ämneskategori)
art (ämneskategori)

Hitta via bibliotek

Till lärosätets databas

Kungliga biblioteket hanterar dina personuppgifter i enlighet med EU:s dataskyddsförordning (2018), GDPR. Läs mer om hur det funkar här.
Så här hanterar KB dina uppgifter vid användning av denna tjänst.

 
pil uppåt Stäng

Kopiera och spara länken för att återkomma till aktuell vy