Tyck till om SwePub Sök här!
onr:"swepub:oai:lup.lub.lu.se:e26b4275-cabf-4469-aa20-33bda7fad2a3"
Sökning: onr:"swepub:oai:lup.lub.lu.se:e26b4275-cabf-4469-aa20-33bda7fad2a3" > Nanoimprint in mr-L...
- 1 av 1
- Föregående post
- Nästa post
- Till träfflistan
Nanoimprint in mr-L 6000.1 XP/PMMA resist system
-
- Carlberg, Patrick (författare)
- Lund University,Lunds universitet,Fasta tillståndets fysik,Fysiska institutionen,Institutioner vid LTH,Lunds Tekniska Högskola,Solid State Physics,Department of Physics,Departments at LTH,Faculty of Engineering, LTH
-
- Beck, Marc (författare)
- Lund University,Lunds universitet,Fasta tillståndets fysik,Fysiska institutionen,Institutioner vid LTH,Lunds Tekniska Högskola,Solid State Physics,Department of Physics,Departments at LTH,Faculty of Engineering, LTH
-
- Graczyk, Mariusz (författare)
- Lund University,Lunds universitet,Fasta tillståndets fysik,Fysiska institutionen,Institutioner vid LTH,Lunds Tekniska Högskola,Solid State Physics,Department of Physics,Departments at LTH,Faculty of Engineering, LTH
- visa fler...
- Pfeiffer, K. (författare)
- Reuther, F. (författare)
- Gruetzner, G. (författare)
- visa färre...
- (creator_code:org_t)
- 2002
- 2002
- Engelska 2 s.
- Ingår i: 7th International Conference on Nanometer-Scale Science and Technology and 21st European Conference on Surface Science.
- Konferensbidrag (refereegranskat)
Abstract
Ämnesord
Stäng
- Use of the new resist system mr-L 6000.1 XP in combination with PMMA is demonstrated to give sub-100 nm resolution in nanoimprint lithography. Low glass transition temperature in combination with high plasma stability makes this resist suitable for achieving desirable resist profiles after the imprint process. Imprint conditions for mr-L 6000.1 XP/PMMA resist system as well as imprint results are described and discussed
Ämnesord
- NATURVETENSKAP -- Fysik -- Den kondenserade materiens fysik (hsv//swe)
- NATURAL SCIENCES -- Physical Sciences -- Condensed Matter Physics (hsv//eng)
Nyckelord
- resist profiles
- plasma stability
- glass transition temperature
- nanoimprint lithography
- XP/PMMA resist system
- 100 nm
- SEM
- scanning electron microscopy
Publikations- och innehållstyp
- kon (ämneskategori)
- ref (ämneskategori)
Till lärosätets databas
- 1 av 1
- Föregående post
- Nästa post
- Till träfflistan
Hitta mer i SwePub
- Av författaren/redakt...
- Carlberg, Patric ...
- Beck, Marc
- Graczyk, Mariusz
- Maximov, Ivan
- Sarwe, Eva-Lena
- Montelius, Lars
- visa fler...
- Pfeiffer, K.
- Reuther, F.
- Gruetzner, G.
- visa färre...
- Om ämnet
-
- NATURVETENSKAP
- NATURVETENSKAP
- och Fysik
- och Den kondenserade ...
- Artiklar i publikationen
- 7th Internationa ...
- Av lärosätet
- Lunds universitet
Sök utanför SwePub
- Sök vidare i:
- Google Book Search
- Google Scholar
Kungliga biblioteket hanterar dina personuppgifter i enlighet med EU:s dataskyddsförordning (2018), GDPR. Läs mer om hur det funkar här.
Så här hanterar KB dina uppgifter vid användning av denna tjänst.
- Copyright © LIBRIS - Nationella bibliotekssystem
- LIBRIS.kb.se
