SwePub
Sök i SwePub databas

  Utökad sökning

Träfflista för sökning "L773:142440116X "

Sökning: L773:142440116X

  • Resultat 1-1 av 1
Sortera/gruppera träfflistan
   
NumreringReferensOmslagsbildHitta
1.
  • Östling, Mikael, et al. (författare)
  • Device integration issues towards 10 nm MOSFETs
  • 2006
  • Ingår i: 2006 25TH INTERNATIONAL CONFERENCE ON MICROELECTRONICS, VOLS 1 AND 2, PROCEEDINGS. - NEW YORK, NY : IEEE. - 142440116X ; , s. 25-30
  • Konferensbidrag (refereegranskat)abstract
    • An overview of critical integration issues for future generation MOSFETs towards 10 nm gate length is presented. Novel materials and innovative structures are discussed. Implementation of high K gate dielectrics is presented and device performance is demonstrated for TiN metal gate surface channel SiGe MOSFETs with a gate stack based on ALD-formed HfO(2)/Al(2)O(3). Low frequency noise properties for those devices are also analyzed. A selective SiGe epitaxy process for low resistivity source/drain contacts has been developed and implemented in pMOSFETs. A spacer pattering technology using optical lithography to fabricate sub 50 nm high-frequency MOSFETs and nanowires is demonstrated, Finally ultra thin body Sol devices with high mobility SiGe channels are demonstrated.
  •  
Skapa referenser, mejla, bekava och länka
  • Resultat 1-1 av 1
Typ av publikation
konferensbidrag (1)
Typ av innehåll
refereegranskat (1)
Författare/redaktör
Östling, Mikael (1)
Malm, B. Gunnar (1)
Hållstedt, Julius (1)
Zhang, Zhen (1)
Zhang, Shili (1)
von Haartman, Martin (1)
visa fler...
Hellstrom, Per-Erik (1)
visa färre...
Lärosäte
Kungliga Tekniska Högskolan (1)
Språk
Engelska (1)
Forskningsämne (UKÄ/SCB)
Teknik (1)
År
2006 (1)

Kungliga biblioteket hanterar dina personuppgifter i enlighet med EU:s dataskyddsförordning (2018), GDPR. Läs mer om hur det funkar här.
Så här hanterar KB dina uppgifter vid användning av denna tjänst.

 
pil uppåt Stäng

Kopiera och spara länken för att återkomma till aktuell vy