SwePub
Sök i SwePub databas

  Utökad sökning

Träfflista för sökning "L773:9781424403011 "

Sökning: L773:9781424403011

  • Resultat 1-1 av 1
Sortera/gruppera träfflistan
   
NumreringReferensOmslagsbildHitta
1.
  • Gottlob, H. D. B., et al. (författare)
  • Approaches to CMOS integration of epitaxial gadolinium oxide high-K dielectrics
  • 2006
  • Ingår i: ESSDERC 2006. - 9781424403011 ; , s. 150-153
  • Konferensbidrag (refereegranskat)abstract
    • Two process concepts for integration of novel gate stacks with epitaxial high-K dielectrics and metal gate electrodes are presented. A "gate first" process based on a planar gate stack on ultra thin SOI material has been used for successful fabrication of MOSFETs with TiN/Gd2O3 gate stack. Furthermore MOSFETs with W/Gd2O3 gate stack have been fabricated with a replacement gate process. This is the first successful attempt to integrate crystalline high-K dielectrics into a "gentle" damascene metal gate process in order to reduce process induced oxide damages.
  •  
Skapa referenser, mejla, bekava och länka
  • Resultat 1-1 av 1
Typ av publikation
konferensbidrag (1)
Typ av innehåll
refereegranskat (1)
Författare/redaktör
Lemme, Max C., 1970- (1)
Efavi, J. K. (1)
Schmidt, M. (1)
Kurz, H. (1)
Gottlob, H. D. B. (1)
Echtermeyer, T. (1)
visa fler...
Wahlbrink, T. (1)
Mollenhauer, T. (1)
Endres, R (1)
Stefanov, Y. (1)
Schwalke, U. (1)
visa färre...
Lärosäte
Kungliga Tekniska Högskolan (1)
Språk
Engelska (1)
Forskningsämne (UKÄ/SCB)
Teknik (1)
År
2006 (1)

Kungliga biblioteket hanterar dina personuppgifter i enlighet med EU:s dataskyddsförordning (2018), GDPR. Läs mer om hur det funkar här.
Så här hanterar KB dina uppgifter vid användning av denna tjänst.

 
pil uppåt Stäng

Kopiera och spara länken för att återkomma till aktuell vy