SwePub
Sök i SwePub databas

  Utökad sökning

Träfflista för sökning "L773:9781424421855 "

Sökning: L773:9781424421855

  • Resultat 1-1 av 1
Sortera/gruppera träfflistan
   
NumreringReferensOmslagsbildHitta
1.
  • Östling, Mikael, et al. (författare)
  • Towards Schottky-Barrier Source/Drain MOSFETs
  • 2008
  • Ingår i: 2008 9TH INTERNATIONAL CONFERENCE ON SOLID-STATE AND INTEGRATED-CIRCUIT TECHNOLOGY, VOLS 1-4. - NEW YORK : IEEE. - 9781424421855 ; , s. 146-149
  • Konferensbidrag (refereegranskat)abstract
    • This paper provides an overview of metal source/drain (S/D) Schottky-barrier (SB) MOSFET technology. The technology offers several benefits for scaling CMOS, i.e., extremely low source/drain resistance, sharp junctions from S/D to channel and low temperature processing. A successful implementation of the technology needs to overcome new obstacles such as SB height engineering and precise control of silicide growth. Device design factors such as S/D to gate underlap, Si film thickness and oxide thickness affect device performance owing to their effects on the SB width. In the past two years several groups have demonstrated high-performance SB MOSFETs, which places the technology as a promising candidate for future generations of CMOS technology.
  •  
Skapa referenser, mejla, bekava och länka
  • Resultat 1-1 av 1
Typ av publikation
konferensbidrag (1)
Typ av innehåll
refereegranskat (1)
Författare/redaktör
Hellström, Per-Erik (1)
Östling, Mikael (1)
Malm, B. Gunnar (1)
Zhang, Shi-Li (1)
Zhang, Zhen (1)
Gudmundsson, Valur (1)
Lärosäte
Kungliga Tekniska Högskolan (1)
Språk
Engelska (1)
Forskningsämne (UKÄ/SCB)
Teknik (1)
År
2008 (1)

Kungliga biblioteket hanterar dina personuppgifter i enlighet med EU:s dataskyddsförordning (2018), GDPR. Läs mer om hur det funkar här.
Så här hanterar KB dina uppgifter vid användning av denna tjänst.

 
pil uppåt Stäng

Kopiera och spara länken för att återkomma till aktuell vy