SwePub
Tyck till om SwePub Sök här!
Sök i SwePub databas

  Utökad sökning

Träfflista för sökning "L773:9781467398930 "

Sökning: L773:9781467398930

  • Resultat 1-1 av 1
Sortera/gruppera träfflistan
   
NumreringReferensOmslagsbildHitta
1.
  • Berg, Martin, et al. (författare)
  • Self-aligned, gate-last process for vertical InAs nanowire MOSFETs on Si
  • 2016
  • Ingår i: Technical Digest - International Electron Devices Meeting, IEDM. - 9781467398930 ; 2016-February
  • Konferensbidrag (refereegranskat)abstract
    • In this work, we present a novel self-aligned gate-last fabrication process for vertical nanowire metal-oxide-semiconductor field-effect transistors. The fabrication method allows for exposure dose-defined gate lengths and a local diameter reduction of the intrinsic channel segment, while maintaining thicker highly doped access regions. Using this process, InAs nanowire transistors combining good on-and off-performance are fabricated demonstrating Q = gm,max/SS = 8.2, which is higher than any previously reported vertical nanowire MOSFET.
  •  
Skapa referenser, mejla, bekava och länka
  • Resultat 1-1 av 1
Typ av publikation
konferensbidrag (1)
Typ av innehåll
refereegranskat (1)
Författare/redaktör
Wernersson, Lars-Eri ... (1)
Berg, Martin (1)
Lind, Erik (1)
Kilpi, Olli Pekka (1)
Svensson, Johannes (1)
Persson, Karl-Magnus (1)
Lärosäte
Lunds universitet (1)
Språk
Engelska (1)
Forskningsämne (UKÄ/SCB)
Teknik (1)
År
2016 (1)

Kungliga biblioteket hanterar dina personuppgifter i enlighet med EU:s dataskyddsförordning (2018), GDPR. Läs mer om hur det funkar här.
Så här hanterar KB dina uppgifter vid användning av denna tjänst.

 
pil uppåt Stäng

Kopiera och spara länken för att återkomma till aktuell vy