SwePub
Tyck till om SwePub Sök här!
Sök i SwePub databas

  Utökad sökning

Träfflista för sökning "WFRF:(Raeissi Bahman 1979) "

Sökning: WFRF:(Raeissi Bahman 1979)

  • Resultat 1-10 av 36
Sortera/gruppera träfflistan
   
NumreringReferensOmslagsbildHitta
1.
  • Chang, S, et al. (författare)
  • An electrowetting-based microfluidic platform for magnetic bioassays
  • 2010
  • Ingår i: The 14th International Conference on Miniaturized Systems for Chemistry and Life Sciences, MicroTAS 2010, 3-7 Oktober, Groningen, Neterlands. - 9781618390622 ; 2, s. 1331-1333
  • Konferensbidrag (refereegranskat)abstract
    • Here we present our recent work on a droplet-based microfluidic device for manipulating microliter-sized droplets. By replacing the formerly used common dielectric SiO2 with Si3N4 and applying a 33 nm thick Teflon top layer to create a hydrophobic surface, we successfully lowered the actuation voltage from 450 V to 50 Vdc/40 Vac. Sputtered HfO2 with high dielectric constant was also investigated as an insulator, which could reproducibly yield thin defect-free insulation layers and lower the actuation voltage to less than 40 V.
  •  
2.
  •  
3.
  • Engström, Olof, 1943, et al. (författare)
  • A generalised methodology for oxide leakage current metric
  • 2008
  • Ingår i: Proceeding of 9th European Workshop on Ultimate Integration of Silicon (ULIS), Udine, Italy. - 9781424417308 ; , s. 167-
  • Konferensbidrag (refereegranskat)abstract
    • From calculations of semiconductor interfacecharge, oxide voltage and tunneling currents for MOSsystems with equivalent oxide thickness (EOT) in therange of 1 nm, rules are suggested for making itpossible to compare leakage quality of different oxideswith an accuracy of a factor 2 – 3 if the EOT is known.The standard procedure suggested gives considerablybetter accuracy than the commonly used method todetermine leakage at VFB+1V for n-type and VFB-1V forp-type substrates.
  •  
4.
  •  
5.
  •  
6.
  •  
7.
  • Engström, Olof, 1943, et al. (författare)
  • Gate stacks
  • 2013
  • Ingår i: Nanoscale CMOS: Innovative Materials, Modeling and Characterization. - : Wiley. ; , s. 23 - 67
  • Bokkapitel (övrigt vetenskapligt/konstnärligt)
  •  
8.
  • Engström, Olof, 1943, et al. (författare)
  • Multiparameter admittance spectroscopy (Invited)
  • 2010
  • Ingår i: ECS Transactions. - : The Electrochemical Society. - 1938-5862 .- 1938-6737. - 9781566778220 ; 35:3, s. 257-265
  • Konferensbidrag (refereegranskat)abstract
    • Multiparameter admittance spectroscopy is described for investigating interface state properties of metal-oxide-semiconductor structures. In the conductance mode of this method, it allows for obtaining three-dimensional or contour plots of conductance data which reveal the mechanisms for capture of charge carriers into the interface states.
  •  
9.
  •  
10.
  •  
Skapa referenser, mejla, bekava och länka
  • Resultat 1-10 av 36

Kungliga biblioteket hanterar dina personuppgifter i enlighet med EU:s dataskyddsförordning (2018), GDPR. Läs mer om hur det funkar här.
Så här hanterar KB dina uppgifter vid användning av denna tjänst.

 
pil uppåt Stäng

Kopiera och spara länken för att återkomma till aktuell vy