SwePub
Sök i SwePub databas

  Utökad sökning

Träfflista för sökning "WFRF:(Kwietniewski Norbert) "

Sökning: WFRF:(Kwietniewski Norbert)

  • Resultat 1-1 av 1
Sortera/gruppera träfflistan
   
NumreringReferensOmslagsbildHitta
1.
  • Zhang, Andy Zhenzhong, et al. (författare)
  • Planarization of epitaxial SiC trench structures by plasma ion etching
  • 2015
  • Ingår i: Materials Science Forum. - 0255-5476 .- 1662-9752. - 9783038354789 ; 821-823, s. 549-552
  • Tidskriftsartikel (refereegranskat)abstract
    • In this work, we present a planarization concept for epitaxial SiC trench structures involving reactive ion etching (RIE) and inductive coupled plasma (ICP) dry etching. The general idea is to transfer the flat surface from spun-on BCB/photo-resist layers to deposited silicon dioxide and finally to bulk SiC by applying process conditions with the same etch rate for the different materials. In this way several microns of unwanted material can be removed and planar SiC surfaces are obtained. With this method trench structures filled by epitaxial re-growth can be planarized with smooth surfaces and good homogeneity over the wafer. Cost-efficient device manufacturing can be achieved by using standard semiconductor process equipment. This technology makes it possible to manufacture advanced epitaxial SiC material structures for devices such as trench JBS diodes and double-gate trench JFETs.
  •  
Skapa referenser, mejla, bekava och länka
  • Resultat 1-1 av 1

Kungliga biblioteket hanterar dina personuppgifter i enlighet med EU:s dataskyddsförordning (2018), GDPR. Läs mer om hur det funkar här.
Så här hanterar KB dina uppgifter vid användning av denna tjänst.

 
pil uppåt Stäng

Kopiera och spara länken för att återkomma till aktuell vy