SwePub - sökning: WFRF:(Nender C)

Numrering	Referens	Omslagsbild	Hitta
1.	Barklund, AM, et al. (författare) Ion-assisted selective deposition of aluminium for via-hole interconnections 1993 Ingår i: Vacuum. - 0042-207X .- 1879-2715. ; 44:3-4, s. 197-201 Tidskriftsartikel (refereegranskat)
2.	Berg, Sören, et al. (författare) Atom assisted sputtering yield amplification 1992 Ingår i: Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces, and Films. - 0734-2101 .- 1520-8559. ; 10:4, s. 1592-1596 Tidskriftsartikel (refereegranskat)
3.	Berg, Sören, et al. (författare) Ion assisted selective deposition of thin films 1988 Ingår i: Vacuum. - 0042-207X .- 1879-2715. ; 38:8-10, s. 621- Tidskriftsartikel (refereegranskat)
4.	Berg, Sören, et al. (författare) Ion assisted selective thin film deposition 1986 Ingår i: Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces, and Films. - 0734-2101 .- 1520-8559. ; 4:3, s. 448- Tidskriftsartikel (refereegranskat)
5.	Berg, Sören, et al. (författare) Ion assited thin film growth 1986 Konferensbidrag (refereegranskat)
6.	Berg, Sören, et al. (författare) Large area selective thin film deposition by bias sputtering 1994 Ingår i: Thin Solid Films. - 0040-6090 .- 1879-2731. ; 241, s. 1-8 Tidskriftsartikel (refereegranskat)
7.	Berg, Sören, et al. (författare) Modeling of reactive sputtering 1991 Konferensbidrag (refereegranskat)
8.	Berg, Sören, et al. (författare) Modelling of reactive sputtering of compound materials 1987 Ingår i: Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces, and Films. - 0734-2101 .- 1520-8559. ; 5:2, s. 202- Tidskriftsartikel (refereegranskat)
9.	Berg, Sören, et al. (författare) Predicting thin film stoichiometry in reactive sputtering 1988 Ingår i: Journal of Applied Physics. - 0021-8979 .- 1089-7550. ; 63:3, s. 887- Tidskriftsartikel (refereegranskat)
10.	Berg, Sören, et al. (författare) Process modelling of reactive sputtering 1989 Ingår i: Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces, and Films. - 0734-2101 .- 1520-8559. ; 7:3, s. 1225-1229 Tidskriftsartikel (refereegranskat)
11.	Berg, Sören, et al. (författare) Selective sputter etching/deposition by non-reactive gases 1984 Konferensbidrag (refereegranskat)
12.	Berg, Sören, et al. (författare) Sputte erosion amplification 1992 Ingår i: Surface and Coatings Technology. ; 54-55, s. 131-135 Tidskriftsartikel (refereegranskat)
13.	Berg, Sören, et al. (författare) Studies of sputtering of monoatomic overlayers applied to ion assited thin film processing 1979 Konferensbidrag (refereegranskat)
14.	Berg, Sören, et al. (författare) The use of process modelling for optimum design of reactive sputtering processes 1989 Ingår i: Journal of Surface and Coatings Technology. ; 39/40:1-3, s. 465-474 Tidskriftsartikel (refereegranskat)
15.	Biersack, JP, et al. (författare) T-DYN Monte Carlo simulations applied to ion assited thin film processes 1991 Ingår i: Nuclear Instruments and Methods in Physics Research Section A. - 0168-9002 .- 1872-9576. ; 359:60, s. 21-27 Tidskriftsartikel (refereegranskat)
16.	Blom, Hans-Olof, et al. (författare) DC-etching of polysilicon with fluorine chemistry 1988 Ingår i: Vacuum. - 0042-207X .- 1879-2715. ; 38:8-10, s. 813- Tidskriftsartikel (refereegranskat)
17.	Blom, Hans-Olof, et al. (författare) Etching of poly-silicon with a DC-discharge 1988 Konferensbidrag (refereegranskat)
18.	Blom, Hans-Olof, et al. (författare) Silicon etching in a direct current glow discharge of CF4/O2 and NF3/O2 1989 Ingår i: Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces, and Films. - 0734-2101 .- 1520-8559. ; 7:6, s. 1321-1324 Tidskriftsartikel (refereegranskat)
19.	Carlsson, P, et al. (författare) A new high rate sputter erosion principle applied to multipurpose thin film processing 1992 Konferensbidrag (refereegranskat)
20.	Carlsson, P, et al. (författare) Reactive spttering using two reactive gases, experiments and computer modeling 1883 Ingår i: Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces, and Films. - 0734-2101 .- 1520-8559. ; 11:4, s. 1534-1539fg Tidskriftsartikel (refereegranskat)
21.	Gelin, B, et al. (författare) Patterning with the use of ion assisted selective deposition 1989 Konferensbidrag (refereegranskat)
22.	Gelin, B, et al. (författare) Patterning with the use of ion assisted selective deposition 1990 Ingår i: Vacuum. - 0042-207X .- 1879-2715. ; 41:4-6, s. 1074-1076- Tidskriftsartikel (refereegranskat)
23.	Harper, JME, et al. (författare) Enhanced sputtering of one species in the processing of multielement thin films 1992 Ingår i: Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces, and Films. - 0734-2101 .- 1520-8559. ; 10:4, s. 1765- Tidskriftsartikel (refereegranskat)
24.	Katardjiev, Ilia V, et al. (författare) On the impact parameter probability distribution in atomic collisions for Monte Carlo simulations 1992 Ingår i: Nuclear Instruments and Methods in Physics Research Section B. - 0168-583X .- 1872-9584. ; 72, s. 28-32 Tidskriftsartikel (refereegranskat)
25.	Katardjiev, Ilia V, et al. (författare) The stady state in net erosion and net growth regimes during simultaneous ion bombardment and atomicdeposition processes 1994 Ingår i: Radiation effects and defects in solids (Print). - 1042-0150 .- 1029-4953. ; 129, s. 315-333 Tidskriftsartikel (refereegranskat)
26.	Larsson, T, et al. (författare) A physical model for eliminating instabilities in reactive sputtering 1988 Ingår i: Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces, and Films. - 0734-2101 .- 1520-8559. ; 6:3, Pt II, s. 1832- Tidskriftsartikel (refereegranskat)
27.	Moradi, M, et al. (författare) Dynamic modeling of the process control of reactive sputtering 1990 Ingår i: Vacuum. - 0042-207X .- 1879-2715. ; 41:7-9, s. 1974-1976 Tidskriftsartikel (refereegranskat)
28.	Moradi, M, et al. (författare) Dynamic modelling of the process control of reactive sputtering 1989 Konferensbidrag (refereegranskat)
29.	Moradi, M, et al. (författare) Modeling of multicomponent reactive sputtering 1991 Ingår i: Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces, and Films. - 0734-2101 .- 1520-8559. Tidskriftsartikel (refereegranskat)
30.	Nender, C, et al. (författare) Dry etching of n- and p-type polysilicon - a rate control study 1987 Ingår i: Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces, and Films. - 0734-2101 .- 1520-8559. ; 5:4, s. 1600- Tidskriftsartikel (refereegranskat)
31.	Nender, C, et al. (författare) High bias sputtering for large area selective deposition 1993 Ingår i: Thin Solid Films. - 0040-6090 .- 1879-2731. ; 228, s. 87-90 Tidskriftsartikel (refereegranskat)
32.	Nender, C, et al. (författare) Interface studies of selectively sputter deposited thin films on processed Si-wafers 1986 Konferensbidrag (refereegranskat)
33.	Nender, C, et al. (författare) Monte Carlo simulations of ion assisted selective deposition 1990 Ingår i: Thin Solid Films. - 0040-6090 .- 1879-2731. ; 193-194, s. 13-17 Tidskriftsartikel (refereegranskat)
34.	Nender, C, et al. (författare) Numerical and experimental studies of the sputter yield amplification effect 1994 Ingår i: Radiation effects and defects in solids (Print). - 1042-0150 .- 1029-4953. ; 130-131, s. 281-291 Tidskriftsartikel (refereegranskat)
35.	Nender, C, et al. (författare) Polysilicon etching in a parallel plate plasma reactor at different frequencies 1986 Konferensbidrag (refereegranskat)
36.	Nender, C, et al. (författare) Selective deposition of thin films by substrate argon ion bombardment 1988 Ingår i: Thin Solid Films. - 0040-6090 .- 1879-2731. ; 164, s. 475-480 Tidskriftsartikel (refereegranskat)
37.	Nender, C, et al. (författare) Selective deposition of Ti - an interface study 1987 Ingår i: Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces, and Films. - 0734-2101 .- 1520-8559. ; 5:4, s. 1073- Tidskriftsartikel (refereegranskat)
38.	Nender, C, et al. (författare) Simulations of multicomponent sputtering 1989 Konferensbidrag (refereegranskat)
39.	Nender, C, et al. (författare) Simulations of multicomponent sputtering 1990 Konferensbidrag (refereegranskat)
40.	Nender, C (författare) Temperaturreglering av diffusionspumpar 1985 Ingår i: Vakuum Nytt. ; :40 Tidskriftsartikel (refereegranskat)
41.	Rydén, K-H, et al. (författare) Oxide breakdown as a result of acharge accumulation during plasma etching 1986 Konferensbidrag (refereegranskat)
42.	Rydén, K-H, et al. (författare) Oxide breakdown due to charge accumulation during plasma etching 1987 Ingår i: Journal of the Electrochemical Society. - 0013-4651 .- 1945-7111. ; 134:12, s. 3113- Tidskriftsartikel (refereegranskat)

Skapa referenser, mejla, bekava och länka

Länka till träfflistan

Träfflista för sökning "WFRF:(Nender C) "

Avgränsa träffmängd

År