SwePub
Sök i SwePub databas

  Utökad sökning

Träfflista för sökning "WFRF:(Niehusmann P) "

Sökning: WFRF:(Niehusmann P)

  • Resultat 1-3 av 3
Sortera/gruppera träfflistan
   
NumreringReferensOmslagsbildHitta
1.
  •  
2.
  •  
3.
  • Wahlbrink, T., et al. (författare)
  • Highly selective etch process for silicon-on-insulator nano-devices
  • 2005
  • Ingår i: Microelectronic Engineering. - : Elsevier BV. - 0167-9317 .- 1873-5568. ; 78-79:SI, s. 212-217
  • Tidskriftsartikel (refereegranskat)abstract
    • Reactive ion etch (RIE) processes with HBr/O-2 chemistry are optimized for processing of functional nanostructures based on silicon and polysilicon. The etch rate, etch selectivity, anisotropy and sidewall roughness are investigated for specific applications. The potential of this process technology for nanoscale functional devices is demonstrated by MOSFETs with 12 nm gate length and optimized photonic devices with ultrahigh Q-factors.
  •  
Skapa referenser, mejla, bekava och länka
  • Resultat 1-3 av 3

Kungliga biblioteket hanterar dina personuppgifter i enlighet med EU:s dataskyddsförordning (2018), GDPR. Läs mer om hur det funkar här.
Så här hanterar KB dina uppgifter vid användning av denna tjänst.

 
pil uppåt Stäng

Kopiera och spara länken för att återkomma till aktuell vy