SwePub
Sök i SwePub databas

  Utökad sökning

Träfflista för sökning "WFRF:(Wissen M.) "

Sökning: WFRF:(Wissen M.)

  • Resultat 1-1 av 1
Sortera/gruppera träfflistan
   
NumreringReferensOmslagsbildHitta
1.
  • Maximov, Ivan, et al. (författare)
  • New high resolution negative resist mr-L 6000.1 XP for electron beam and nanoimprint lithography
  • 2002
  • Ingår i: 7th International Conference on Nanometer-Scale Science and Technology and 21st European Conference on Surface Science.
  • Konferensbidrag (refereegranskat)abstract
    • We present the characterization results of a new high resolution negative electron beam resist mr-L 6000.1 XP. The resist can also be used as imprintable polymer in nanoimprint lithography with sub-100 nm resolution. The feature size achieved after e-beam exposure was about 50 nm with sensitivity of 2-4 μC/cm2. Studies of the resist properties as a function of chemical composition and development conditions are also presented
  •  
Skapa referenser, mejla, bekava och länka
  • Resultat 1-1 av 1
Typ av publikation
konferensbidrag (1)
Typ av innehåll
refereegranskat (1)
Författare/redaktör
Schulz, H. (1)
Maximov, Ivan (1)
Beck, Marc (1)
Carlberg, Patrick (1)
Montelius, Lars (1)
Pfeiffer, K. (1)
visa fler...
Reuther, F. (1)
Gruetzer, G. (1)
Wissen, M. (1)
Scheer, H.-C. (1)
visa färre...
Lärosäte
Lunds universitet (1)
Språk
Engelska (1)
Forskningsämne (UKÄ/SCB)
Naturvetenskap (1)
År
2002 (1)

Kungliga biblioteket hanterar dina personuppgifter i enlighet med EU:s dataskyddsförordning (2018), GDPR. Läs mer om hur det funkar här.
Så här hanterar KB dina uppgifter vid användning av denna tjänst.

 
pil uppåt Stäng

Kopiera och spara länken för att återkomma till aktuell vy