SwePub
Sök i SwePub databas

  Utökad sökning

Träfflista för sökning "L773:1930 8876 OR L773:9781479943784 srt2:(2005-2009)"

Sökning: L773:1930 8876 OR L773:9781479943784 > (2005-2009)

  • Resultat 1-1 av 1
Sortera/gruppera träfflistan
   
NumreringReferensOmslagsbildHitta
1.
  • Raeissi, Bahman, 1979, et al. (författare)
  • Electron traps at HfO2/SiOx interfaces
  • 2008
  • Ingår i: Proceeding of 38th European Solid-State Device Research Conference (ESSDERC 2008), Edinburgh, Scotland, UK. - 1930-8876. - 9781424423637 ; , s. 130-133
  • Konferensbidrag (refereegranskat)abstract
    • Electron traps in HfO2 have been investigated by measuring thermally stimulated current (TSC). Two different interface regions have been identified where captured electrons interact with energy band states. The two domains are separated by and close to the “interlayer” of SiOx commonly present in high-k/silicon stacks. On the inner side, between SiOx and silicon, we find an irregular silicon crystal which we interpret as a source for interface states. At the SiOx/HfO2 interface, we find a high concentration of unstable traps with a strong influence on the electric field distribution in the gate stack.
  •  
Skapa referenser, mejla, bekava och länka
  • Resultat 1-1 av 1
Typ av publikation
konferensbidrag (1)
Typ av innehåll
refereegranskat (1)
Författare/redaktör
Lai, Zonghe, 1948 (1)
Engström, Olof, 1943 (1)
Raeissi, Bahman, 197 ... (1)
Piscator, Johan, 197 ... (1)
Chen, Yang Yin (1)
Lärosäte
Chalmers tekniska högskola (1)
Språk
Engelska (1)
Forskningsämne (UKÄ/SCB)
Teknik (1)
År
2008 (1)

Kungliga biblioteket hanterar dina personuppgifter i enlighet med EU:s dataskyddsförordning (2018), GDPR. Läs mer om hur det funkar här.
Så här hanterar KB dina uppgifter vid användning av denna tjänst.

 
pil uppåt Stäng

Kopiera och spara länken för att återkomma till aktuell vy