SwePub
Sök i LIBRIS databas

  Utökad sökning

WFRF:(Reaney M)
 

Sökning: WFRF:(Reaney M) > (1995-1999) > Multilayered silico...

Multilayered silicon/silicon nitride thin films deposited by plasma-CVD : Effects of crystallization

Dutta, Joydeep (författare)
Reaney, I. M. (författare)
Roca i Cabarrocas, P. (författare)
visa fler...
Hofmann, H. (författare)
visa färre...
Elsevier BV, 1995
1995
Engelska.
Ingår i: Nanostructured Materials. - : Elsevier BV. - 0965-9773. ; 6:5-8, s. 843-846
  • Tidskriftsartikel (refereegranskat)
Ämnesord
Stäng  

Ämnesord

TEKNIK OCH TEKNOLOGIER  -- Nanoteknik (hsv//swe)
ENGINEERING AND TECHNOLOGY  -- Nano-technology (hsv//eng)

Publikations- och innehållstyp

ref (ämneskategori)
art (ämneskategori)

Hitta via bibliotek

Till lärosätets databas

Hitta mer i SwePub

Av författaren/redakt...
Dutta, Joydeep
Reaney, I. M.
Roca i Cabarroca ...
Hofmann, H.
Om ämnet
TEKNIK OCH TEKNOLOGIER
TEKNIK OCH TEKNO ...
och Nanoteknik
Artiklar i publikationen
Nanostructured M ...
Av lärosätet
Kungliga Tekniska Högskolan

Sök utanför SwePub

Kungliga biblioteket hanterar dina personuppgifter i enlighet med EU:s dataskyddsförordning (2018), GDPR. Läs mer om hur det funkar här.
Så här hanterar KB dina uppgifter vid användning av denna tjänst.

 
pil uppåt Stäng

Kopiera och spara länken för att återkomma till aktuell vy