WFRF:(Wissmar S)
Sökning: WFRF:(Wissmar S) > (2008) > SiGe quantum well t...
- 1 av 1
- Föregående post
- Nästa post
- Till träfflistan
SiGe quantum well thermistor materials
- Wissmar, S. G. E. (författare)
-
- Radamson, Henry H. (författare)
- KTH,Mikroelektronik och Informationsteknik, IMIT
- Yamamoto, Y. (författare)
- visa fler...
- Tillack, B. (författare)
- Vieider, C. (författare)
- Andersson, J. Y. (författare)
- visa färre...
- (creator_code:org_t)
- Elsevier BV, 2008
- 2008
- Engelska.
- Ingår i: Thin Solid Films. - : Elsevier BV. - 0040-6090 .- 1879-2731. ; 517:1, s. 337-339
- Tidskriftsartikel (refereegranskat)
Abstract
Ämnesord
Stäng
- A novel monocrystalline high-performance thermistor material based on SiGe quantum well (QW) heterostructures is presented. A comparison between different growth temperatures for Si0.7Ge0.3 and Si growth is performed. Results illustrate a value of 2.3%/K for TCR with a low excess noise.
Nyckelord
- Selective epitaxy growth
- SiGe
- Thermistor
- TECHNOLOGY
- TEKNIKVETENSKAP
Publikations- och innehållstyp
- ref (ämneskategori)
- art (ämneskategori)
- 1 av 1
- Föregående post
- Nästa post
- Till träfflistan
Hitta mer i SwePub
- Av författaren/redakt...
- Wissmar, S. G. E ...
- Radamson, Henry ...
- Yamamoto, Y.
- Tillack, B.
- Vieider, C.
- Andersson, J. Y.
- Artiklar i publikationen
- Thin Solid Films
- Av lärosätet
- Kungliga Tekniska Högskolan
Sök utanför SwePub
- Sök vidare i:
- Google Book Search
- Google Scholar
Kungliga biblioteket hanterar dina personuppgifter i enlighet med EU:s dataskyddsförordning (2018), GDPR. Läs mer om hur det funkar här.
Så här hanterar KB dina uppgifter vid användning av denna tjänst.
- Copyright © LIBRIS - Nationella bibliotekssystem
- LIBRIS.kb.se
