SwePub
Tyck till om SwePub Sök här!
Sök i LIBRIS databas

  Utökad sökning

WFRF:(Chang J)
 

Sökning: WFRF:(Chang J) > Populärvet., debatt m.m. > SOURCE/DRAIN TECHNO...

SOURCE/DRAIN TECHNOLOGY FOR THE CARBON NANO-TUBE/GRAPHENE CMOS WITH A SINGLE SELF-ALIGNED METAL SILICIDE PROCESS

Chang, J. (författare)
Lavoie, C. (författare)
Zhen, Zhang, 1979- (författare)
Uppsala universitet,Fasta tillståndets elektronik
 (creator_code:org_t)
2010
Engelska.
  • Patent (populärvet., debatt m.m.)
Ämnesord
Stäng  

Publikations- och innehållstyp

pop (ämneskategori)
pat (ämneskategori)

Till lärosätets databas

Sök utanför SwePub

Kungliga biblioteket hanterar dina personuppgifter i enlighet med EU:s dataskyddsförordning (2018), GDPR. Läs mer om hur det funkar här.
Så här hanterar KB dina uppgifter vid användning av denna tjänst.

 
pil uppåt Stäng

Kopiera och spara länken för att återkomma till aktuell vy