WFRF:(Sarwe Eva Lena)
Sökning: WFRF:(Sarwe Eva Lena) > Magnusson Martin > Fabrication of Si-b...
- 1 av 1
- Föregående post
- Nästa post
- Till träfflistan
Fabrication of Si-based nanoimprint stamps with sub-20 nm features
-
- Maximov, Ivan (författare)
- Lund University,Lunds universitet,Fasta tillståndets fysik,Fysiska institutionen,Institutioner vid LTH,Lunds Tekniska Högskola,Solid State Physics,Department of Physics,Departments at LTH,Faculty of Engineering, LTH
-
- Sarwe, Eva-Lena (författare)
- Lund University,Lunds universitet,Fasta tillståndets fysik,Fysiska institutionen,Institutioner vid LTH,Lunds Tekniska Högskola,Solid State Physics,Department of Physics,Departments at LTH,Faculty of Engineering, LTH
-
- Beck, Marc (författare)
- Lund University,Lunds universitet,Fasta tillståndets fysik,Fysiska institutionen,Institutioner vid LTH,Lunds Tekniska Högskola,Solid State Physics,Department of Physics,Departments at LTH,Faculty of Engineering, LTH
- visa fler...
- visa färre...
- (creator_code:org_t)
- 2002
- 2002
- Engelska.
- Ingår i: MICROELECTRONIC ENGINEERING. - 1873-5568 .- 0167-9317. ; 61-2, s. 449-454
- Konferensbidrag (refereegranskat)
Abstract
Ämnesord
Stäng
- We present two alternative methods for fabrication of nanoimprint lithography stamps in SiO2 with sub-20 nm features: (a) optimized electron beam lithography (EBL) and lift-off patterning of a 15-nm thick Cr mask, and (b) aerosol deposition of W particles in the 20-nm size range. In both cases, the pattern transfer into SiO2 was performed using reactive ion etching (RIE) with CHF3 as etch gas. In the first approach, we used a double layer resist system (PMMA/ZEP 520A7 positive resists) for the EBL exposure. Resist thickness, exposure dose and development time were optimized to obtain 15-20 nm features after Cr lift-off. In the second approach, we used size selected W aerosol particles as etch masks during etching of SiO2. Both methods of stamp fabrication are compared and discussed. (C) 2002 Published by Elsevier Science B.V.
Ämnesord
- NATURVETENSKAP -- Fysik -- Den kondenserade materiens fysik (hsv//swe)
- NATURAL SCIENCES -- Physical Sciences -- Condensed Matter Physics (hsv//eng)
Nyckelord
- aerosols
- electron beam lithography
- nanoimprint
- etching
Publikations- och innehållstyp
- kon (ämneskategori)
- ref (ämneskategori)
Hitta via bibliotek
- MICROELECTRONIC ENGINEERING (Sök värdpublikationen i LIBRIS)
Till lärosätets databas
- 1 av 1
- Föregående post
- Nästa post
- Till träfflistan
Hitta mer i SwePub
- Av författaren/redakt...
- Maximov, Ivan
- Sarwe, Eva-Lena
- Beck, Marc
- Deppert, Knut
- Graczyk, Mariusz
- Magnusson, Marti ...
- visa fler...
- Montelius, Lars
- visa färre...
- Om ämnet
-
- NATURVETENSKAP
- NATURVETENSKAP
- och Fysik
- och Den kondenserade ...
- Artiklar i publikationen
- MICROELECTRONIC ...
- Av lärosätet
- Lunds universitet
Sök utanför SwePub
- Sök vidare i:
- Google Book Search
- Google Scholar
Kungliga biblioteket hanterar dina personuppgifter i enlighet med EU:s dataskyddsförordning (2018), GDPR. Läs mer om hur det funkar här.
Så här hanterar KB dina uppgifter vid användning av denna tjänst.
- Copyright © LIBRIS - Nationella bibliotekssystem
- LIBRIS.kb.se
