onr:"swepub:oai:DiVA.org:kth-236865"
Sökning: onr:"swepub:oai:DiVA.org:kth-236865" > Resistance values o...
- 1 av 1
- Föregående post
- Nästa post
- Till träfflistan
- Habib, K. (författare)
Resistance values of aluminum oxide film in situ during anodization of aluminum by fabry-pérot interferometry
- Artikel/kapitelEngelska2017
Förlag, utgivningsår, omfång ...
- 2017-12-22
- Electrochemical Society Inc.2017
- printrdacarrier
Nummerbeteckningar
- LIBRIS-ID:oai:DiVA.org:kth-236865
- https://urn.kb.se/resolve?urn=urn:nbn:se:kth:diva-236865URI
- https://doi.org/10.1149/08010.1221ecstDOI
Kompletterande språkuppgifter
- Språk:engelska
- Sammanfattning på:engelska
Ingår i deldatabas
- SwePubSwePub
Klassifikation
Anmärkningar
- QC 20181214
- A combination of Fabry-Pérot interferometry and the DC electrochemical method have been used for the first time, in situ, to measure the resistance of aluminum oxide films in 2% sulfuric acid solution. Values of the corresponding resistance of the obtained Al2O3 film thickness were determined during anodization of aluminum (Al) in 2% H2SO4. The obtained resistance values were verified by electrochemical impedance spectroscopy (EIS) and holographic interferometry. The corresponding resistance (2.4 x109 Ohms) to the final thickness of the aluminum oxide film was found in an agreement with the resistance value that was measured by holographic interferometry, 2.54x109 Ohms, in 2% H2SO4. On the contrary, the corresponding resistance (2.4 x109 Ohms) to the final thickness of the aluminum oxide film was found twice the value of the resistance that was measured by the electrochemical impedance spectroscopy (EIS), 1.25x109 Ohms, in 2% H2SO4.
Ämnesord och genrebeteckningar
- NATURVETENSKAP Kemi Oorganisk kemi hsv//swe
- NATURAL SCIENCES Chemical Sciences Inorganic Chemistry hsv//eng
- Alumina
- Electrochemical impedance spectroscopy
- Holographic interferometry
- Optical films
- Oxide films
- Spectroscopy
- Al2O3 films
- Aluminum (Al)
- Anodizations
- ELectrochemical methods
- Resistance values
- Sulfuric acid solution
- Aluminum oxide
Biuppslag (personer, institutioner, konferenser, titlar ...)
- Mohammad, W. (författare)
- Karim, F. (författare)
- Dutta, Joydeep,1964-KTH,Tillämpad fysik(Swepub:kth)u1dajeit (författare)
- KTHTillämpad fysik (creator_code:org_t)
Sammanhörande titlar
- Ingår i:ECS Transactions: Electrochemical Society Inc., s. 1221-12291938-67371938-58629781607685395
Internetlänk
- 1 av 1
- Föregående post
- Nästa post
- Till träfflistan
Hitta mer i SwePub
- Av författaren/redakt...
- Habib, K.
- Mohammad, W.
- Karim, F.
- Dutta, Joydeep, ...
- Om ämnet
-
- NATURVETENSKAP
- NATURVETENSKAP
- och Kemi
- och Oorganisk kemi
- Artiklar i publikationen
- ECS Transactions
- Av lärosätet
- Kungliga Tekniska Högskolan
Sök utanför SwePub
- Sök vidare i:
- Google Book Search
- Google Scholar
Kungliga biblioteket hanterar dina personuppgifter i enlighet med EU:s dataskyddsförordning (2018), GDPR. Läs mer om hur det funkar här.
Så här hanterar KB dina uppgifter vid användning av denna tjänst.
- Copyright © LIBRIS - Nationella bibliotekssystem
- LIBRIS.kb.se
