SwePub
Sök i LIBRIS databas

  Utökad sökning

onr:"swepub:oai:DiVA.org:kth-23868"
 

Sökning: onr:"swepub:oai:DiVA.org:kth-23868" > Spatial and spectra...

  • Legall, H. (författare)

Spatial and spectral characterization of a laser produced plasma source for extreme ultraviolet metrology

  • Artikel/kapitelEngelska2004

Förlag, utgivningsår, omfång ...

  • AIP Publishing,2004
  • printrdacarrier

Nummerbeteckningar

  • LIBRIS-ID:oai:DiVA.org:kth-23868
  • https://urn.kb.se/resolve?urn=urn:nbn:se:kth:diva-23868URI
  • https://doi.org/10.1063/1.1807567DOI

Kompletterande språkuppgifter

  • Språk:engelska
  • Sammanfattning på:engelska

Ingår i deldatabas

Klassifikation

  • Ämneskategori:ref swepub-contenttype
  • Ämneskategori:art swepub-publicationtype

Anmärkningar

  • QC 20100525
  • We present a laser produced plasma (LPP) source optimized for metrology and the results of its radiometric characterization. The presented (LPP) source can be used for reflectometry and spectroscopy in the soft x-ray range. For these applications, stable operation with high spectral photon yields high reliability in continuous operation and, to reach high spectral resolution, a small source size and high source point stability is necessary. For the characterization of the source, special instruments have been designed and calibrated using the soft x-ray radiometry beamline of the Physikalisch-Technische-Bundesanstalt at BESSY. These instruments are an imaging spectrometer, a double multilayer tool for in-band power measurements, a transmission slit grating spectrograph, and a pinhole camera. From the measurements a source size of 30 mumx55 mum (2sigma, horizontal by vertical) and a stability of better than 5 mum horizontally and 9 mum vertically were obtained. The source provides a flat continuous emission in the extreme ultraviolet (EUV) range around 13.4 nm and a spectral photon flux of up to 1*10(14)/(s sr 0.1 nm) at a pump laser pulse energy of 650 mJ. The shot-to-shot stability of the source is about 5% (1sigma) for laser pulse energies above 200 mJ. It is shown that an Au-LPP source provides spectrally reproducible emission with sufficient power at low debris conditions for the operation of a laboratory based EUV reflectometer and for spectroscopy.

Ämnesord och genrebeteckningar

  • x-ray-absorption
  • laboratory euv reflectometer
  • high average power
  • lithography applications
  • excimer-laser
  • light-source
  • spectroscopy
  • emission
  • clusters
  • debris

Biuppslag (personer, institutioner, konferenser, titlar ...)

  • Stiel, H. (författare)
  • Vogt, Ulrich (författare)
  • Schonnagel, H. (författare)
  • Nickles, P. V. (författare)
  • Tummler, J. (författare)
  • Scholz, F. (författare)
  • Scholze, F. (författare)

Sammanhörande titlar

  • Ingår i:Review of Scientific Instruments: AIP Publishing75:11, s. 4981-49880034-67481089-7623

Internetlänk

Hitta via bibliotek

Till lärosätets databas

Kungliga biblioteket hanterar dina personuppgifter i enlighet med EU:s dataskyddsförordning (2018), GDPR. Läs mer om hur det funkar här.
Så här hanterar KB dina uppgifter vid användning av denna tjänst.

 
pil uppåt Stäng

Kopiera och spara länken för att återkomma till aktuell vy