Sökning: onr:"swepub:oai:DiVA.org:kth-50539" >
Introduction of cry...
Introduction of crystalline high-k gate dielectrics in a CMOS process
-
Gottlob, H D B (författare)
-
- Lemme, Max C., 1970- (författare)
- AMO GmbH, AMICA, Aachen, Germany
-
Mollenhauer, T (författare)
-
visa fler...
-
Wahlbrink, T (författare)
-
Efavi, J K (författare)
-
Kurz, H (författare)
-
Stefanov, Y (författare)
-
Haberle, K (författare)
-
Komaragiri, R (författare)
-
Ruland, T (författare)
-
Zaunert, F (författare)
-
Schwalke, U (författare)
-
visa färre...
-
(creator_code:org_t)
- Elsevier BV, 2005
- 2005
- Engelska.
-
Ingår i: Journal of Non-Crystalline Solids. - : Elsevier BV. - 0022-3093 .- 1873-4812. ; 351:21-23, s. 1885-1889
- Relaterad länk:
-
https://urn.kb.se/re...
-
visa fler...
-
https://doi.org/10.1...
-
visa färre...
Abstract
Ämnesord
Stäng
- In this work we report on methods to introduce crystalline rare-earth (RE) oxides with high (k > 3.9) dielectric constants (high-k) in a CMOS process flow. Key process steps compatible with crystalline praseodymium oxide (Pr2O3) high-k gate dielectric have been developed and evaluated in metal-oxide-semiconductor (MOS) structures and n-MOS transistors fabricated in an adapted conventional bulk process. From capacitance-voltage measurements a dielectric constant of k = 36 has been calculated. Furthermore an alternative process sequence suitable for the introduction of high-k material into silicon on insulator (SOI) MOS-field-effect-transistors (MOSFET) is presented. The feasibility of this process is shown by realization of n- and p-MOSFETs with standard SiO2 gate dielectric as demonstrator. SiO2 gate dielectric can be replaced by crystalline RE-oxides in the next batch fabrication.
Ämnesord
- TEKNIK OCH TEKNOLOGIER -- Nanoteknik (hsv//swe)
- ENGINEERING AND TECHNOLOGY -- Nano-technology (hsv//eng)
Publikations- och innehållstyp
- ref (ämneskategori)
- art (ämneskategori)
Hitta via bibliotek
Till lärosätets databas
- Av författaren/redakt...
-
Gottlob, H D B
-
Lemme, Max C., 1 ...
-
Mollenhauer, T
-
Wahlbrink, T
-
Efavi, J K
-
Kurz, H
-
visa fler...
-
Stefanov, Y
-
Haberle, K
-
Komaragiri, R
-
Ruland, T
-
Zaunert, F
-
Schwalke, U
-
visa färre...
- Om ämnet
-
- TEKNIK OCH TEKNOLOGIER
-
TEKNIK OCH TEKNO ...
-
och Nanoteknik
- Artiklar i publikationen
-
Journal of Non-C ...
- Av lärosätet
-
Kungliga Tekniska Högskolan