Sökning: onr:"swepub:oai:DiVA.org:kth-50541" >
Supercritical dryin...
Supercritical drying for high aspect-ratio HSQ nano-structures
-
Wahlbrink, T. (författare)
-
Kupper, D. (författare)
-
Bolten, J. (författare)
-
visa fler...
-
Moller, M. (författare)
-
- Lemme, Max C., 1970- (författare)
- AMO GmbH, AMICA, Aachen, Germany
-
Kurz, H. (författare)
-
visa färre...
-
(creator_code:org_t)
- Elsevier BV, 2007
- 2007
- Engelska.
-
Ingår i: Microelectronic Engineering. - : Elsevier BV. - 0167-9317 .- 1873-5568. ; 84:5-8, s. 1045-1048
- Relaterad länk:
-
https://urn.kb.se/re...
-
visa fler...
-
https://doi.org/10.1...
-
visa färre...
Abstract
Ämnesord
Stäng
- The benefits of supercritical resist drying (SRD) technique using carbon dioxide (CO2) are investigated with respect to the resolution of dense patterns and the aspect ratio (AR) of nano-structures in rather thick HSQ layers. For double lines separated by a distance of 50 nm the maximum achievable AR is trebled using SRD processes compared to conventional nitrogen blow. The mechanical stability of resist structures is significantly improved by using SRI).
Ämnesord
- TEKNIK OCH TEKNOLOGIER -- Nanoteknik (hsv//swe)
- ENGINEERING AND TECHNOLOGY -- Nano-technology (hsv//eng)
Nyckelord
- supercritical resist drying
- SRD
- HSQ
- electron beam lithography
- aspect ratio
Publikations- och innehållstyp
- ref (ämneskategori)
- art (ämneskategori)
Hitta via bibliotek
Till lärosätets databas